[發明專利]一種分布式曝光劑量控制系統及方法

有效

• 申請號: 201110222156.0
• 申請日: 2011-08-04
• 公開（公告）號: CN102914945A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 孫智超;羅聞;張曦
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種分布式曝光劑量控制系統，包括激光器單元，可變衰減器、光路傳輸單元，光路引導單元及能量傳感器，所述激光器單元產生一激光脈沖經過所述可變衰減器、光路傳輸單元及光路引導單元后由所述能量傳感器測量實際接收的激光脈沖，其特征在于，所述激光器單元，可變衰減器，光路傳輸單元，光路引導單元及能量傳感器分別采用獨立校正模型獲得不同單元的補償因子，將所述實際接收的激光脈沖和參數組根據所述不同單元的校準因子進行前饋補償后獲得一脈沖能量值，所述脈沖能量值通過一統一補償控制單元輸出后進行反饋補償以獲得曝光劑量。

2.如權利要求1所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述獨立校正模型包括信號收集模塊、模塊參數記錄模塊以及輸出因子計算模塊。

3.如權利要求2所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述信號收集模塊采集參數并去除噪音后下發給模塊參數記錄模塊。

4.如權利要求3所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述信號收集模塊采集參數并去除噪音的步驟包括：采集參數S1，并將其存入緩存數組ValN中，每次采集后，對數組中的前兩個周期的參數Vali-2進行復查，當該參數同時滿足以下條件：(|Vali-2-(Vali-3+Vali-4)/2|＞|Vali-2|·25％)∩(|Vali-2-(Vali-1+Vali)/2|＞|Vali-2|·25％)，則認為參數Vali-2為噪聲，在緩存中去除該參數。

5.如權利要求2所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述模塊參數記錄模塊采用環形緩沖區，所述環形緩沖區中的每個單元都為符合本模塊參數組成的結構。

6.如權利要求2所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述輸出因子計算模塊從所述模塊參數記錄模塊中獲取運算參數及影響權重參數，根據所述運算參數及影響權重參數計算并輸入校準后的輸出參數和校準因子，所述運算參數包括絕對變量參數，間接影響結果參數，直接影響結果參數。

7.如權利要求6所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述計算方法為：將所述絕對變量參數消除測量得值和標準值的偏移誤差。

8.如權利要求6所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述計算方法為：建立所述間接影響結果參數的校準曲線，并通過查表求得修正后的測量結果，以消除測量值的非線性誤差。

9.如權利要求6所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述計算方法為：對所述直接影響結果參數按正向和反向分別接上一個相同的測量傳感器，并將二者得出的測量值相減。

10.如權利要求1所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述參數組包括：脈沖能量Ep，曝光時間Texp，激光波長WL，激光器單元工作電壓Vls，，激光器單元總工作時間Lls，，激光器單元單元溫度Tls，，激光器單元觸發電壓HV，可變衰減器單元鏡片位置Pva，可變衰減器單元總工作時間Lva，可變衰減器單元溫度Tva，傳輸光路單元狹縫寬度Wslit，傳輸光路單元物鏡孔徑Dpo，傳輸光路單元鏡片位移Dza，傳輸光路單元總工作時間Ltran，光束導向單元光束X向位置Px，光束導向單元光束Y向位置Py，光束導向單元光束角度Pa，光束導向單元總工作時間Lbst，能量傳感器工作電壓Vsr，能量傳感器采樣電流Isr，能量傳感器總工作時間Lsr。

11.如權利要求10所述的分布式曝光劑量控制系統，其特征在于，所述最佳曝光劑量與所述激光脈沖之間有以下公式：E_set＝(E_nom·K_laser+B_laser)·K_VA·K_transfer·K_BST·K_env，其中Eset是激光脈沖，Enom是最佳曝光劑量，K_laser是激光器增益因子，Kva是可變衰減器增益因子，Ktransfer是傳輸光路單元增益因子，Blaser是激光器暗電流漂移，Kbst是光束導向單元增益因子，Kenv是能量傳感器增益因子。