[發明專利]一種涂覆型高粘接太陽電池背膜及制備工藝

在審

• 申請號: 201110219666.2
• 申請日: 2011-08-02
• 公開（公告）號: CN102911613A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 林建偉;張育政;夏文進;王鳴光;王志
• 申請（專利權）人: 蘇州中來光伏新材股份有限公司
• 主分類號: C09J7/02
• 分類號: C09J7/02;C08L67/02;C08K3/22;H01L31/048;H01L31/18
• 代理公司: 北京金之橋知識產權代理有限公司 11137
• 代理人: 林建軍

1.一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：包括基材和覆合在所述基材至少一個表面的EVA膠膜層。

2.如權利要求1所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基材包括基層和含氟涂層，所述基層的上下外表面均設有所述含氟涂層，所述基層與所述含氟涂層之間設有硅鈦化成膜層，所述含氟涂層的外表面設有氟硅氧烷化成膜層。

3.如權利要求1述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述EVA膠膜層的厚度為0.01毫米－0.1毫米。

4.如權利要求1述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述EVA膠膜層是由聚(乙烯-乙酸乙烯)制成。

5.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基層為PET基層。

6.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基層是PET與PBT或PEN熱融共混而成的高分子合金材料基層，其中PBT或PEN的含量以重量計為1%~50%。

7.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基層為超細閉孔式發泡層。

8.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基層是在PET中加入選自二氧化硅、氧化鈦、氧化鋁或氧化鋯的無機氧化物形成，其中無機氧化物的含量以重量計為1%~35%。

9.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基層的厚度為0.1毫米－10毫米。

10.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述含氟涂層為四氟乙烯、六氟丙烯和偏氟乙烯的三元共聚物所形成的膜層。

11.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述含氟涂層中氟樹脂的含量以重量計為30%~95%。

12.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述的含氟涂層的厚度為0.01毫米－0.1毫米。

13.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述氟硅氧烷化成膜層和硅鈦化成膜層的厚度均為0.01微米－5微米。

14.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述基層表面或所述含氟涂層的內表面經等離子硅鈦化處理形成所述硅鈦化成膜層。

15.如權利要求2所述的一種涂覆型高粘接太陽電池背膜，其特征在于：所述含氟涂層外表面經等離子氟硅氧烷化處理形成所述氟硅氧烷化成膜層。

16.一種涂覆型高粘接太陽電池背膜的加工工藝，其特征在于：主要包括以下步驟：

（1）在基層的兩個表面進行等離子化處理，活化所述兩個表面；

（2）對活化后基層的兩個表面噴涂或滾涂或浸漬硅鈦化合物，經20－200攝氏度加熱1－600秒，使得在基層的兩個表面上形成硅鈦化成膜層；

（3）對含有硅鈦化成膜層的基層加熱至50－200攝氏度后雙面覆合厚度為5－200微米的含氟涂層，形成基材；

（4）對含氟涂層的基材的兩個表面進行等離子處理，活化所述兩個表面；

（5）對活化后基材的兩個表面噴涂或滾涂或浸漬氟硅氧烷化合物，經20－200攝氏度加熱1－600秒，使基材表面形成氟硅氧烷化成膜層；

（6）在形成氟硅氧烷化成膜層的基材上的任意一面采用流延工藝流延出EVA膠膜層。

17.一種涂覆型高粘接太陽電池背膜的加工工藝，其特征在于：主要包括以下步驟：

（1）對含氟涂層的兩個表面進行等離子處理，活化含氟涂層表面；

（2）對活化后含氟涂層的兩個表面分別噴涂或滾涂氟硅氧烷化合物和硅鈦化合物，經20－200攝氏度加熱1－600秒，使含氟涂層的兩個表面形成氟硅氧烷化成膜層和硅鈦化成膜層；

（3）對基層加熱至50－200攝氏度后，在其雙面分別與步驟（2）中所得的含氟涂層的硅鈦化成膜層相覆合，形成基材；

（4）在基材上的任意一面采用流延工藝流延出EVA膠膜層。