[發(fā)明專利]介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110219319.X
• 申請(qǐng)日: 2011-07-28
• 公開（公告）號(hào): CN102479279A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林本堅(jiān);高蔡勝;劉如淦;黃文俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F17/50
• 分類號(hào): G06F17/50;H01L21/31;G03F1/70
• 代理公司: 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，其特征在于其中該方法使用一雙重圖案化技術(shù)，且該方法包括以下步驟：

決定該介層窗層的一介層窗是否觸及或連接至分配至一第一金屬掩膜的一底下金屬結(jié)構(gòu)或一上方金屬結(jié)構(gòu)；

假如該介層窗觸及或連接至分配至該第一金屬掩膜的該底下金屬結(jié)構(gòu)或該上方金屬結(jié)構(gòu)，將該介層窗分配至一第一介層窗掩膜，其中該第一介層窗掩膜對(duì)準(zhǔn)該第一金屬掩膜；以及

假如該介層窗并未觸及或連接至分配至該第一金屬掩膜的該底下金屬結(jié)構(gòu)或該上方金屬結(jié)構(gòu)，將該介層窗分配至一第二介層窗掩膜，其中工藝中該第二介層窗掩膜對(duì)齊一第二金屬掩膜，該第二金屬掩膜不同于該第一金屬掩膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其中所述的介層窗層的多個(gè)介層窗對(duì)準(zhǔn)個(gè)別觸及或連接的底下金屬結(jié)構(gòu)或上方金屬結(jié)構(gòu)，藉以改善介層窗置放性、介層窗阻抗或介層窗優(yōu)良率。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其中在決定該介層窗層的該介層窗是否觸及或連接該底下金屬結(jié)構(gòu)或該上方金屬結(jié)構(gòu)的步驟之前，更包括：

分配部分的該底下金屬結(jié)構(gòu)或部分的該上方金屬結(jié)構(gòu)至該第一金屬遮罩；以及

分配另一部分的該底下金屬結(jié)構(gòu)或另一部分的該上方金屬結(jié)構(gòu)至該第二金屬遮罩。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其還包括：

工藝上對(duì)準(zhǔn)該第一金屬掩膜與該第二金屬掩膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其還包括：

限制觸及或連接相同的底下金屬結(jié)構(gòu)或上方金屬結(jié)構(gòu)的多個(gè)介層窗，使得所述介層窗具有等于或大于一距離的多個(gè)節(jié)距，其中該距離由一介層窗遮罩分離規(guī)則所規(guī)定，而具有小于該距離的節(jié)距且相鄰的其他多個(gè)介層窗分配至多個(gè)不同的介層窗遮罩。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于其還包括：

定義位在多個(gè)不同的底下金屬結(jié)構(gòu)之上，或位于多個(gè)不同的上方金屬結(jié)構(gòu)之下，多個(gè)介層窗之間的空間的一介層窗掩膜分離規(guī)則；以及

定義所述不同的底下金屬結(jié)構(gòu)或所述不同的上方金屬結(jié)構(gòu)之間的空間的一金屬掩膜分離規(guī)則；

其中該介層窗掩膜分離規(guī)則的限制相同或小于該金屬掩膜分離規(guī)則的限制。

7.一種介層窗層的介層窗圖案化掩膜分配的方法，其特征在于其中該介層窗層的多個(gè)介層窗工藝上直接對(duì)準(zhǔn)置放在個(gè)別的底下金屬結(jié)構(gòu)之上，該方法使用一雙重介層窗掩膜圖案化技術(shù)，且該方法包括以下步驟：

產(chǎn)生該介層窗層的所述介層窗的多個(gè)介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，其中所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示連接至少違反一介層窗掩膜分離規(guī)則的數(shù)個(gè)介層窗；

決定一介層窗是否觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示；

假如該介層窗并未觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示，分配該介層窗至二介層窗掩膜的其中一者，該者對(duì)準(zhǔn)一底下金屬層的的一金屬掩膜，且該介層窗置放于該金屬掩膜某金屬結(jié)構(gòu)之上；

假如該介層窗觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示其中一者，進(jìn)行一決定操作，以決定該介層窗是否為一末端介層窗；

假如該介層窗為該末端介層窗，分配一第一權(quán)重至該介層窗；

假如該介層窗并非為該末端介層窗，分配一第二權(quán)重至該介層窗；以及

進(jìn)行一分配步驟，以分配觸及所述介層窗掩膜分離規(guī)則違反標(biāo)示的每個(gè)介層窗至該二介層窗掩膜的其中一者，使得具有該第一權(quán)重的介層窗被給予較高的優(yōu)先順序，以將具有該第一權(quán)重的介層窗分配至正確的介層窗掩膜上。該正確的介層窗掩膜乃對(duì)準(zhǔn)其一金屬掩膜，而在此金屬掩膜上具有與該第一權(quán)重介層窗有觸及或連接的金屬結(jié)構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于其中所述的末端介層窗置放在該底下金屬結(jié)構(gòu)的一處之上的介層窗，且該底下金屬結(jié)構(gòu)的該處具有小于一設(shè)定的寬度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于其中所述的設(shè)定的寬度約為90納米。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于其還包括：

在該分配步驟完成之后，將所有介層窗完成涂色，而完成掩膜分配。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于其中所述的第一權(quán)重大于該第二權(quán)重。