[發(fā)明專利]真空對(duì)盒設(shè)備及對(duì)盒系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110218359.2 | 申請(qǐng)日: | 2011-08-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102654668A | 公開(公告)日: | 2012-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳柄宇;唐歡;劉英;張千 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;B25J19/00 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 設(shè)備 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶面板制造領(lǐng)域,尤其涉及一種真空對(duì)盒設(shè)備及對(duì)盒系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在液晶面板的制造過程中,將液晶面板的陣列基板和彩膜基板進(jìn)行對(duì)盒時(shí),常常會(huì)在液晶層中出現(xiàn)氣泡等不良,嚴(yán)重影響了液晶面板的質(zhì)量和成品率。并且氣泡的產(chǎn)生過程無法監(jiān)測(cè),這給工藝的改善造成了很大的障礙。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例所要解決的技術(shù)問題在于提供一種真空對(duì)盒設(shè)備,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)液晶擴(kuò)散過程的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),從而改善液晶面板的生產(chǎn)工藝,提高成品率。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
一種真空對(duì)盒設(shè)備,包括:上基板、與所述上基板相對(duì)設(shè)置的下基板和信號(hào)處理裝置,所述上基板的與所述下基板相對(duì)的面上設(shè)置有電極片,所述電極片覆蓋整個(gè)所述上基板,所述下基板的與所述上基板相對(duì)的面上設(shè)置有電極陣列,所述電極陣列的多個(gè)電極單元與所述信號(hào)處理裝置相連接。
所述信號(hào)處理裝置包括二維建模單元,用于將來自所述電極陣列的電信號(hào)轉(zhuǎn)換為液晶擴(kuò)散模擬圖像。
所述電極陣列的多個(gè)電極單元為多個(gè)微型電極片。
所述的真空對(duì)盒設(shè)備還包括電源模塊,用于給所述真空對(duì)盒設(shè)備提供電源,以使所述電極片與所述電極陣列的多個(gè)電極單元之間形成電容。
所述的真空對(duì)盒設(shè)備還包括顯示裝置,用于顯示所述液晶擴(kuò)散模擬圖像。
所述上基板和下基板上設(shè)置有真空吸附孔。
一種對(duì)盒系統(tǒng),包括上述的真空對(duì)盒設(shè)備,所述對(duì)盒系統(tǒng)用于根據(jù)所述液晶擴(kuò)散模擬圖像調(diào)整對(duì)盒的工藝參數(shù)。
所述對(duì)盒的工藝參數(shù)包括:液晶量、液晶間距、液晶溫度和對(duì)盒壓力。
本發(fā)明實(shí)施例的真空對(duì)盒設(shè)備及對(duì)盒系統(tǒng),在上基板的與下基板相對(duì)的面上設(shè)置電極片,在下基板的與上基板相對(duì)的面上設(shè)置電極陣列,當(dāng)給上基板的電極片和下基板的電極陣列充電時(shí),電極片與電極陣列形成電容,液晶擴(kuò)散的過程中,上基板和下基板之間在有液晶和沒有液晶時(shí)電容值是不同的,電容值變化會(huì)引起下基板的電極陣列產(chǎn)生變化的電流,這樣就將上基板和下基板之間有無液晶的變化轉(zhuǎn)換為了電流的變化,也就是將液晶的擴(kuò)散過程轉(zhuǎn)換為了電信號(hào)的變化,實(shí)現(xiàn)了對(duì)液晶擴(kuò)散過程的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例真空對(duì)盒設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖之一;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例真空對(duì)盒設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖之二。
附圖標(biāo)記說明:
1、上基板????11、真空吸附孔????12、電極片????2、下基板21、電極陣列????3、信號(hào)處理裝置????4、顯示裝置
具體實(shí)施方式
本發(fā)明實(shí)施例提供一種真空對(duì)盒設(shè)備及對(duì)盒系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了對(duì)液晶擴(kuò)散過程的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例做詳細(xì)描述。
實(shí)施例一
如圖1和圖2所示的真空對(duì)盒設(shè)備,包括:上基板1、與上基板1相對(duì)設(shè)置的下基板2和信號(hào)處理裝置3,上基板1的與下基板2相對(duì)的面上設(shè)置有電極片12,電極片12覆蓋整個(gè)上基板1,下基板2的與上基板1相對(duì)的面上設(shè)置有電極陣列21,電極陣列21的多個(gè)電極單元與信號(hào)處理裝置3相連接。
本實(shí)施例的真空對(duì)盒設(shè)備,通過在上基板1的與下基板2相對(duì)的面上設(shè)置電極片12,在下基板2的與上基板1相對(duì)的面上設(shè)置電極陣列21,當(dāng)給上基板1的電極片12和下基板2的電極陣列21充電后,即將電極片12和電極陣列21接入具有電源的電路后,電極片12與電極陣列21之間形成電容。
在給液晶面板的陣列基板和彩膜基板之間充入液晶后,由于C=εS/d,兩基板之間有液晶和沒有液晶時(shí)介電常數(shù)ε是不同的,進(jìn)而上基板1和下基板2在有液晶和沒有液晶時(shí)電容值是不同的,且C=Q/U,Q=I×t,在電壓U沒有改變的情況下,電容值C變化會(huì)引起下基板2的電極陣列21產(chǎn)生變化的電流,這樣就將上基板1和下基板2之間有無液晶的變化轉(zhuǎn)換為了電流的變化,也就是將液晶的擴(kuò)散過程轉(zhuǎn)換為了電信號(hào)的變化。電極陣列21的多個(gè)電極單元與信號(hào)處理裝置3相連接,信號(hào)處理裝置3按照一定的頻率接收來自電極陣列21的電信號(hào)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
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