[發明專利]光學復合基材有效
| 申請號： | 201110217353.3 | 申請日： | 2011-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN102416737A | 公開（公告）日： | 2012-04-18 |
| 發明（設計）人： | 賴政全;郗任遠 | 申請（專利權）人： | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B27/08;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁揮;鮑俊萍 |
| 地址： | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 復合 基材 | ||
1.一種光學復合基材，其特征在于，包含：
一基材，具有一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；
一第一涂布層，形成于該第一表面上；以及
一第二涂布層，形成于該第二表面上，其中該第二涂布層的剛性與該第一涂布層的剛性相同。
2.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層的剛性大于該基材的剛性。
3.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層與該第二涂布層為結構對稱形成于該基材上。
4.根據權利要求3所述的光學復合基材，其特征在于，該基材的主要材質為聚對苯二甲酸乙二酯，該第一涂布層及該第二涂布層的主要材質為紫外線硬化樹脂或環氧樹脂。
5.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該基材的主要材質為聚對苯二甲酸乙二酯，該第一涂布層的主要材質為樹脂。
6.根據權利要求5所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層的主要材質為紫外線硬化樹脂或環氧樹脂。
7.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該基材、該第一涂布層及該第二涂布層均可透光。
8.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層包含多個有機或無機粒子、反射物質、金屬粒子或玻璃纖維。
9.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層的厚度為該基材的厚度的2.0％至12.0％。
10.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層的厚度為5m～30m。
11.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該第一涂布層及該第二涂布層以一無應力方式直接形成于該基材上。
12.根據權利要求1所述的光學復合基材，其特征在于，該基材由均質的或均勻混合的材料制成，該第一涂布層及該第二涂布層直接形成于該基材上。
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