[發(fā)明專利]曝光裝置及方法以及顯示用面板基板制造裝置及制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110217251.1
• 申請日: 2011-07-29
• 公開（公告）號: CN102346377A
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 工藤慎也;林知明
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社日立高新技術(shù)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;姜精斌

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是關(guān)于液晶顯示裝置等顯示用面板基板的制造，對涂布有光阻劑的基板照射光束，通過光束掃描基板，于基板描繪圖案的曝光裝置及曝光方法，以及顯示用面板基板制造裝置或顯示用面板基板的制造方法，特別是使用排列于正交復(fù)數(shù)的反射鏡的二方向的空間性光調(diào)變器，變更各反射鏡的角度來調(diào)變照射基板的光束的曝光裝置及曝光方法，以及顯示用面板基板制造裝置或顯示用面板基板的制造方法。

背景技術(shù)

被作為顯示用面板使用的液晶顯示裝置的TFT(Thin?Film?Transistor，薄膜晶體管)基板或彩色濾色片基板、電漿顯示面板用基板、有機(jī)EL(Electroluminescence，電激發(fā)光)顯示面板用基板等的制造，是使用曝光裝置，通過微影法技術(shù)于基板上形成圖案來進(jìn)行。作為曝光裝置，現(xiàn)有技術(shù)中，有使用透鏡或鏡片，將光罩的圖案投影于基板上的投影方式、及于光罩和基板之間設(shè)置微小的間隙(proximity?gap)，將光罩的圖案轉(zhuǎn)印于基板的近接方式。

近年來，對涂布有光阻劑的基板照射光束，通過光束來掃描基板，于基板描繪圖案的曝光裝置被開發(fā)出來。由于是通過光束來掃描基板，于基板描繪圖案，因此不需要高價的光罩。另外，通過變更描繪圖案及掃描的程序，可以對應(yīng)各種的顯示用面板基板。作為此種曝光裝置，例如有專利文獻(xiàn)1。

[專利文獻(xiàn)1]日本專利特開2003-332221號公報

發(fā)明內(nèi)容

通過光束，于基板描繪圖案時，在光束的調(diào)變上，是使用DMD(Digital?Micromirror?Device，數(shù)字微反射鏡裝置)。DMD是排列于通過反射光束，對基板照射的二方向所構(gòu)成，通過變更各反射鏡的角度，來調(diào)變對基板反射的光束。現(xiàn)在市售的DMD，各反射鏡的尺寸為10～15μm四方程度，于鄰接的反射鏡之間設(shè)置有1μm程度的間隙。如將DMD和藉由光束的基板的掃描方向平行地配置時，各反射鏡的排列方向(正交的二方向)成為和基板的掃描方向平行及垂直，鄰接的反射鏡間的間隙與基板是相對地平行移動，于對應(yīng)此間隙的處所，無法描繪圖案。因此，DMD是如專利文獻(xiàn)1所記載般，對于藉由光束的基板的掃描方向為傾斜地被使用。

通過DMD被調(diào)變的光束，是從包含光束照射裝置的裝置光學(xué)系統(tǒng)的頭部被照射于基板。對應(yīng)DMD的各反射鏡的各光束照射區(qū)域，是和反射鏡的形狀相同為正方形，被描繪于基板的圖案，成為排列微小的正方形的點者。

如依據(jù)專利文獻(xiàn)1記載的方法，基板上的某大小的正方形區(qū)域內(nèi)中的各光束照射區(qū)域的中心點的分布，理想上為如圖11般。

但是，于實際的裝置中，依據(jù)進(jìn)行基板的移動的工作臺的編碼器的分解能，各光束照射區(qū)域的藉由各反射鏡的描繪中心點位置成為數(shù)字值，非如圖11所示的理想的分布，成為于如圖12所示的描繪中心點位置產(chǎn)生周期性偏移的分布，知道會對曝光結(jié)果產(chǎn)生影響。

本發(fā)明的第1目的，在于提供：將各光束照射區(qū)域的各反射鏡的描繪中心點位置轉(zhuǎn)換為數(shù)字值之時，使之分散以免產(chǎn)生周期性偏移，以接近均等的曝光量，可以涵蓋基板全面描繪的曝光裝置或曝光方法。

本發(fā)明的第2目的，在于提供：適用可以達(dá)成第1目的的曝光裝置或曝光方法，可以制造高畫質(zhì)的顯示用面板的顯示用面板制造裝置或顯示用面板制造方法。

本發(fā)明為了達(dá)成所述第1目的，提供了一種曝光裝置，為具有：通過排列于正交復(fù)數(shù)的反射鏡的二方向的空間性光調(diào)變器，依據(jù)描繪資料，對涂布有光阻劑的基板照射光束予以描繪的光束照射裝置；及相對地掃描所述基板與所述光束照射裝置的掃描手段；及數(shù)字地檢測所述掃描手段的位置的檢測手段的曝光裝置，具有：

以使描繪于所述基板的一定的描繪區(qū)域內(nèi)的曝光量接近均等的方式，使所述一定的描繪區(qū)域內(nèi)的所述各反射鏡的描繪中心點位置分散的分散手段。

另外，本發(fā)明為了達(dá)成所述第1目的，其第2特征為：在第1特征之外，所述各反射鏡是被排列于所述掃描方向的反射鏡。

進(jìn)而本發(fā)明為了達(dá)成所述第1目的，其第3特征為：在第2特征之外，所述分散手段，是將通過排列于所述掃描方向的反射鏡的分散圖案，于垂直于所述掃描方向的方向予以錯開相位來使之分散的手段。

另外，本發(fā)明為了達(dá)成所述第1目的，其第4特征為：在第1特征之外，所述分散手段，是使通過所述檢測手段所產(chǎn)生的所述一定的描繪區(qū)域內(nèi)的偏移的位置偏差分散的手段。

進(jìn)一步地，所述曝光裝置具有：搭載所述光束照射裝置予以旋轉(zhuǎn)，使所述光束照射裝置的空間性光調(diào)變器對于掃描方向為傾斜的工作臺。

其中，所述光束照射裝置的空間性光調(diào)變器，是對于掃描方向只傾斜反射鏡的間隔量地被配置。