[發(fā)明專利]帶電粒子束照射裝置、帶電粒子束照射方法及帶電粒子束照射程序有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110217159.5 | 申請日： | 2011-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN102380171A | 公開（公告）日： | 2012-03-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 桔正則 | 申請（專利權(quán)）人： | 住友重機械工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | A61N5/10 | 分類號： | A61N5/10;G21K5/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿軍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 帶電 粒子束 照射 裝置 方法 程序 | ||
1.一種帶電粒子束照射裝置，其為對被照射物照射帶電粒子束的裝置，其特征在于，具備：
掃描機構(gòu)，掃描被照射至所述被照射物的所述帶電粒子束；
照射量設(shè)定機構(gòu)，設(shè)定所述帶電粒子束在通過所述掃描機構(gòu)在所述被照射物上掃描的所述帶電粒子束的掃描線上的多個目標掃描位置的每個上的照射量；及
掃描速度設(shè)定機構(gòu)，根據(jù)通過所述照射量設(shè)定機構(gòu)設(shè)定的照射量，設(shè)定所述帶電粒子束在各個所述目標掃描位置上的目標掃描速度。
2.如權(quán)利要求1所述的帶電粒子束照射裝置，其特征在于，
具備控制機構(gòu)，所述控制機構(gòu)控制所述掃描機構(gòu)，以使所述帶電粒子束隨所述目標掃描位置及所述目標掃描速度在所述被照射物上掃描。
3.如權(quán)利要求2所述的帶電粒子束照射裝置，其特征在于，
具備測量機構(gòu)，所述測量機構(gòu)測量通過所述掃描機構(gòu)在所述被照射物上掃描的所述帶電粒子束的掃描位置及掃描速度，
所述控制機構(gòu)進行對向所述掃描機構(gòu)的控制輸入進行調(diào)整的位置速度反饋控制，來控制所述掃描機構(gòu)，以使所述目標掃描位置與通過所述測量機構(gòu)測量的所述掃描位置的誤差消失，并且使所述目標掃描速度與通過所述測量機構(gòu)測量的所述掃描速度的誤差消失。
4.如權(quán)利要求2或3所述的帶電粒子束照射裝置，其特征在于，
進一步具備射束強度檢測機構(gòu)，所述射束強度檢測機構(gòu)檢測所述帶電粒子束的射束強度，
當由所述射束強度檢測機構(gòu)檢測的所述射束強度向預定的誤差范圍外變動時，所述控制機構(gòu)調(diào)整基于所述掃描機構(gòu)的掃描速度，以相互抵消該變動。
5.一種帶電粒子束照射方法，其為對被照射物照射帶電粒子束的方法，其特征在于，具備：
照射量設(shè)定步驟，設(shè)定所述帶電粒子束在通過掃描機構(gòu)在所述被照射物上掃描的所述帶電粒子束的掃描線上的多個目標掃描位置的每個上的照射量；及
掃描速度設(shè)定步驟，根據(jù)在所述照射量設(shè)定步驟中設(shè)定的照射量，設(shè)定所述帶電粒子束在各個所述目標掃描位置上的目標掃描速度。
6.一種帶電粒子束照射程序，其為對被照射物照射帶電粒子束的程序，其中，該程序用于使計算機實現(xiàn)照射量設(shè)定功能和掃描速度設(shè)定功能，
所述照射量設(shè)定功能設(shè)定所述帶電粒子束在通過掃描機構(gòu)在所述被照射物上掃描的所述帶電粒子束的掃描線上的多個目標掃描位置的每個上的照射量，
所述掃描速度設(shè)定功能根據(jù)通過所述照射量設(shè)定功能設(shè)定的照射量，設(shè)定所述帶電粒子束在各個所述目標掃描位置上的目標掃描速度。
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