[發(fā)明專利]基于純相位液晶光學(xué)相控陣的任意波前復(fù)振幅無散斑實(shí)時精確變換方法及裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110216712.3 | 申請日: | 2011-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN102323678A | 公開(公告)日: | 2012-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王東;張建;吳麗瑩;甘雨;劉翔 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G02B27/48 | 分類號: | G02B27/48;G02F1/133 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 相位 液晶 光學(xué) 相控陣 任意 波前復(fù) 振幅 無散斑 實(shí)時 精確 變換 方法 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域,具體屬于液晶光學(xué)和衍射光學(xué)交叉技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
一種基于純相位液晶光學(xué)相控陣任意波前無散斑實(shí)時精確產(chǎn)生且波前振幅與相位分別編程控制的方法,在無掩模激光直寫、光束波前整形、三維顯示、激光雷達(dá)、激光光束波前敏捷控制等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。目前現(xiàn)有波前產(chǎn)生或整形方法有:(1)相襯法,該方法采用純相位液晶光學(xué)相控陣對光波前進(jìn)行一次調(diào)整,為后面的相襯濾波器引入相移量。根據(jù)需要的波前,依據(jù)澤尼克相襯原理近似地設(shè)計出需要引入的相移量以及設(shè)計出相應(yīng)參數(shù)的相襯濾波器。該方法只能近似地形成預(yù)期的波前,且每次需要設(shè)計出合適參數(shù)的相襯濾波器,無法做到實(shí)時精確波前產(chǎn)生。(2)直接利用液晶光學(xué)相控陣對進(jìn)行波前一次調(diào)整方法:該方法只能一次調(diào)整波前的振幅或相位。無法準(zhǔn)確產(chǎn)生振幅與相位都是預(yù)期的光波前,且產(chǎn)生的光波前散斑嚴(yán)重。(3)利用兩個振幅型液晶光學(xué)相控陣和振幅液晶光學(xué)相控陣聯(lián)合的方法,一個用于振幅調(diào)整,一個用于相位調(diào)整,能夠產(chǎn)生較好的波前,但是振幅型衍射元件的衍射效率較低。(4)利用兩個鐵電液晶光學(xué)相控陣聯(lián)合的方法,每個相控陣都對波前的振幅相位同時調(diào)整,生成的波前是二者的共同作用。該方法的缺點(diǎn)是無法對波前的振幅和相位分別獨(dú)立編程控制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了達(dá)到對波前的振幅和相位分別獨(dú)立控制,而提出了一種基于純相位液晶光學(xué)相控陣的任意波前復(fù)振幅無散斑實(shí)時精確變換方法及裝置。
基于純相位液晶光學(xué)相控陣的任意波前復(fù)振幅無散斑實(shí)時精確變換裝置包括第一純相位液晶光學(xué)相控陣、第一透鏡、第二純相位液晶光學(xué)相控陣和第二透鏡;第一純相位液晶光學(xué)相控陣位于第一透鏡的前焦平面上,第二純相位液晶光學(xué)相控陣位于第一透鏡的后焦平面上,所述第一透鏡的后焦平面和第二透鏡的前焦平面相重合,目標(biāo)平面位于第二透鏡的后焦平面上。
基于純相位液晶光學(xué)相控陣的任意波前復(fù)振幅無散斑實(shí)時精確變換方法的步驟如下:
第一步:向第一純相位液晶光學(xué)相控陣的入射面投射入射光波,入射光波為均勻的平面光波U(x,y)=Aexp(icons);
第二步:通過調(diào)整第一純相位液晶光學(xué)相控陣,使得入射光波經(jīng)該第一純相位液晶光學(xué)相控陣和第一透鏡之后,在第二純相位液晶光學(xué)相控陣的入射面處形成的波前復(fù)振幅U′(u,v):
其中,表示第一純相位液晶光學(xué)相控陣上加載的相位;為在第二純相位液晶光學(xué)相控陣入射面處形成的波前復(fù)振幅U′(u,v)的隨機(jī)相位;A表示常量;λ表示波長;f表示透鏡的焦距;i表示復(fù)數(shù)中的虛數(shù)單位;x,y表示第一純相位液晶光學(xué)相控陣位置處橫縱坐標(biāo);u,v表示第二純相位液晶光學(xué)相控陣位置處橫縱坐標(biāo);;|U(u,v)|表示在第二純相位液晶光學(xué)相控陣入射面形成的波前復(fù)振幅U′(u,v)的振幅,也是也是第二純相位液晶光學(xué)相控陣出射面處預(yù)期波前復(fù)振幅的振幅;
第三步:利用第二純相位液晶光學(xué)相控陣去補(bǔ)償經(jīng)過第一純相位液晶光學(xué)相控陣和第一透鏡后在在第二純相位液晶光學(xué)相控陣的入射面處形成的波前復(fù)振幅U′(u,v)的隨機(jī)相位使之達(dá)到在第二純相位液晶光學(xué)相控陣的出射面處預(yù)期波前復(fù)振幅U(u,v):
其中,表示第二純相位液晶光學(xué)相控陣上加載的補(bǔ)償相位,表示第二純相位液晶光學(xué)相控陣出射面處預(yù)期波前復(fù)振幅的相位;
第四步:通過第二透鏡在目標(biāo)平面處獲得期望的目標(biāo)波前復(fù)振幅V(η,ξ)為:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110216712.3/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





