[發明專利]一種基于高分子材料的微結構的制備方法有效
| 申請號： | 201110216681.1 | 申請日： | 2011-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN102477163A | 公開（公告）日： | 2012-05-30 |
| 發明（設計）人： | 劉若鵬;趙治亞;法布里齊亞;何雪涵 | 申請（專利權）人： | 深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創新技術有限公司 |
| 主分類號： | C08J7/18 | 分類號： | C08J7/18;C08L27/16;C08L23/06 |
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| 地址： | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 高分子材料 微結構 制備 方法 | ||
1.一種基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的制備方法包括以下步驟：
a、在真空或惰性氣體環境下，將具有鏤空區的遮掩板覆蓋住基板，然后進行電子束輻照，電子束通過鏤空區轟擊所述基板相應區域的材料分子，產生自由基；
b、輻照結束后，將基板浸入到自由基穩定劑溶液中處理，處理后清洗并干燥基板，使得處理后的基板帶有穩定自由基；
c、將帶有穩定自由基的基板浸入裝有單體溶液的反應釜中，在惰性氣體和在所述的單體溶液的聚合溫度的條件下充分攪拌進行接枝聚合反應；
d、完成接枝聚合反應后取出基板，清洗并干燥基板。
2.根據權利要求1所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的接枝聚合反應的接枝程度由相應的時間來控制從而控制高分子材料的厚度。
3.根據權利要求2所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的接枝程度跟時間成線性關系。
4.根據權利要求1所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的步驟a中的遮掩板為鋁制或鉛制遮掩板，所述的遮掩板的鏤空區采用的是機械或激光鉆孔的技術制作出納米尺寸的微結構鏤空區。
5.根據權利要求1所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的步驟b中自由基穩定劑為TEMPO溶液。
6.根據權利要求5所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的TEMPO溶液的濃度為0.19-0.31mol/L。
7.根據權利要求6所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的TEMPO溶液的濃度優選為0.21-0.28mol/L。
8.根據權利要求1所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的基板的材質為硬質的或柔性的板材或薄膜。
9.根據權利要求1所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的步驟c中的單體為含有雙鍵的化合物。
10.根據權利要求1所述的基于高分子材料的微結構的制備方法，其特征在于：所述的惰性氣體為氬氣或氦氣。
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