[發明專利]一種用于硬盤盤基片超精密表面制造的拋光組合物

有效

• 申請號: 201110216580.4
• 申請日: 2011-07-29
• 公開（公告）號: CN102358824A
• 公開（公告）日: 2012-02-22
• 發明（設計）人: 潘國順;周艷;羅桂海;雒建斌;路新春;劉巖
• 申請（專利權）人: 清華大學;深圳清華大學研究院;深圳市力合材料有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;B24B29/02
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 童曉琳

1.一種用于硬盤盤基片超精密表面制造的拋光組合物，包含磨料、腐蝕劑、氧化劑和水，其特征在于：該拋光組合物還包含穩定劑、拋光促進劑和拋光平衡劑，所述拋光促進劑為無機鹽類，所述拋光平衡劑為有機酸鹽類，所述拋光組合物的pH值為0.5～5。

2.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，所述無機鹽類為氯化鹽、硫酸鹽、磷酸鹽、磷酸氫二鹽、磷酸二氫鹽、碳酸鹽或碳酸氫鹽中的一種或幾種；所述有機酸鹽類為羥基羧酸鹽、氨基羧酸鹽、磺基羧酸鹽、膦酸鹽中的一種或幾種。

3.根據權利要求2所述的拋光組合物，其特征在于，所述羥基羧酸鹽為乙醇酸鹽、酒石酸鹽、檸檬酸鹽、蘋果酸鹽、乳酸鹽或水楊酸鹽中的一種或幾種，所述氨基羧酸鹽為甘氨酸鹽、丙氨酸鹽、谷氨酸鹽、天門冬氨酸鹽或乙二胺四乙酸鹽中的一種或幾種，所述磺基羧酸鹽為磺基水楊酸鹽或磺基琥珀酸鹽中的一種或幾種，所述膦酸鹽為2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸鹽、氨基三亞甲基膦酸鹽、羥基亞乙基二膦酸鹽、乙二胺四亞甲基膦酸鹽或己二胺四亞甲基膦酸鹽中的一種或幾種。

4.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，按重量百分含量，穩定劑為0.02～10wt％，拋光促進劑為0.01～20wt％，拋光平衡劑為0.001～10wt％，磨料為1～30wt％，腐蝕劑為0.1～10wt％，氧化劑為0.1～20wt％。

5.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，所述磨料為氧化硅、氧化鋁、氧化鋯或氧化鈰中的一種或幾種，所述磨料的平均粒徑為10～200納米。

6.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，所述腐蝕劑為鹽酸、硝酸、磷酸、硫酸、氨基磺酸、次磷酸、亞磷酸或焦磷酸的一種或幾種。

7.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，所述氧化劑為過氧化氫、過氧化鈉、硝酸鐵、硝酸鋁、過二硫酸、過二硫酸鈉、過乙酸、過苯甲酸、次氯酸、次氯酸鈉、次氯酸鈣、次溴酸、次碘酸、高氯酸、高溴酸或高碘酸中的一種或幾種。

8.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，所述穩定劑為乙酸、丙酸、草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、富馬酸、衣康酸、乳酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、馬來酸、乙醇酸、α-羥基異丁酸、甘油酸、葡糖酸、水楊酸、五倍子酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三亞甲基膦酸、乙二胺四亞甲基膦酸、羥基亞乙基二膦酸或己二胺四亞甲基膦酸中的一種或幾種。

9.根據權利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，經其拋光后盤基片的表面粗糙度在0.3埃以下，且有效消除表面微劃痕、拋光痕跡等微缺陷；所述表面缺陷微劃痕是指用原子力顯微鏡5μm×5μm范圍內才能見到的劃痕，所述表面缺陷拋光痕跡是指用光學顯微鏡放大倍數500倍下才能見到的束狀條痕。

10.權利要求1至9任意一個權利要求所述的拋光組合物用于拋光硬盤盤基片，所述硬盤盤基片為鎳磷鍍敷鋁合金基片或玻璃基片。