[發明專利]數控刻楦機楦坯夾持機構有效
| 申請號: | 201110216089.1 | 申請日: | 2011-07-30 | 
| 公開(公告)號: | CN102320072A | 公開(公告)日: | 2012-01-18 | 
| 發明(設計)人: | 范揚波;聶曉根;陳濤 | 申請(專利權)人: | 福州大學 | 
| 主分類號: | B27M3/20 | 分類號: | B27M3/20 | 
| 代理公司: | 福州元創專利商標代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡學俊 | 
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 國省代碼: | 福建;35 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 數控 刻楦機楦坯 夾持 機構 | ||
技術領域
本發明涉及一種數控刻楦機楦坯夾持機構,適用于各種楦坯的夾持。?
背景技術
目前數控刻楦加工機采用的楦坯加持方式如圖1所示,楦坯由頭頂尖和尾頂尖夾持并由頭頂尖帶動旋轉,在旋風刀的作用下完成鞋楦的加工。這種楦坯的夾持方式的主要缺陷是:楦坯經數控刻楦機加工后獲得的是半成品楦,還必須在切跟機上經手工操作切去鞋楦兩頭A和B的夾持部分,并通過手工打磨拋光才能獲得最后的成品,鞋楦兩頭夾持部分的去除和打磨對工人操作技能要求很高,加工后存在鞋楦形狀誤差導致鞋楦品質不高。?
發明內容
本發明提供一種數控刻楦機楦坯夾持機構,本發明設計合理,結構緊湊,工作可靠,解決了楦坯兩頭夾持無法一次完成鞋楦加工的缺陷,提高了加工效率。?
本發明的技術方案在于:一種數控刻楦機楦坯夾持機構,包括夾持轉臂,其特征在于:所述夾持轉臂下端連接有一軸心線與夾持轉臂長度方向成一定夾角的液壓缸,所述液壓缸內設置有往復活塞,所述液壓缸下端蓋上設置有夾爪,所述夾爪兩側設有可沿夾爪軸心線往復滑動的一組滑塊,所述往復活塞下端面經穿設于液壓缸下端蓋的活動推桿與滑塊傳動連接,所述活動推桿外側還套置有復位拉簧,所述滑塊下端斜面與夾爪下部周側的斜契配合,迫使夾爪收攏,以夾持楦坯上端筒口。?
上述往復活塞的外周壁與液壓缸的內腔壁之間設置有密封圈,所述往復活塞的內腔設置有下端部頂在液壓缸下端蓋上的中心壓簧。?
上述液壓缸下端蓋和夾爪為一體成型結構,位于夾爪兩旁側的滑塊經橫向貫穿夾爪的螺栓連接。?
上述夾持轉臂上設置有通往液壓缸的壓力油道。?
本發明的優點在于:設計合理,結構緊湊,工作可靠,采用夾爪夾緊楦坯筒口的方式夾持楦坯,解決了以往楦坯兩頭夾持無法一次完成鞋楦加工的缺陷,提高了加工效率。?
附圖說明
圖1是現有的數控刻楦加工機楦坯加持方式示意圖。?
圖2是本發明實施例的楦坯加持機構示意圖。?
圖3是圖2中的A-A剖視圖。?
圖1中:1—尾頂尖??2—楦坯??3—旋風刀??4—頭頂尖。?
圖2和3中:1—伺服電機??2—夾持轉臂??3—楦坯??4—旋風刀??5—夾爪??6—滑塊?7—復位拉簧??8—活動推桿??9—中心壓簧??10—往復活塞??11—液壓油孔??12—密封圈?13—液壓缸下端蓋??14—螺栓??B—楦坯筒口。?
具體實施方式
為讓本發明的上述特征和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,并配合附圖,作詳細說明如下。?
五軸數控刻楦機所設計的楦坯加持機構如圖2~3所示,伺服電機1通過聯接部分帶動夾持轉臂2經由夾爪5夾持楦坯筒口B帶動楦坯3繞回轉中心回轉,在旋風刀4的作用下完成鞋楦的加工,這種楦坯夾持方法能使數控刻楦一次完成,解決了楦坯兩頭夾持無法一次完成鞋楦加工的缺陷。本發明的數控刻楦機楦坯夾持機構,包括夾持轉臂2,其特征在于:所述夾持轉臂2下端連接有一軸心線與夾持轉臂2長度方向成一定夾角的液壓缸,所述液壓缸內設置有往復活塞10,所述液壓缸10下端蓋上設置有夾爪5,所述夾爪5兩側設有可沿夾爪5軸心線往復滑動的一組滑塊6,所述往復活塞10下端面經穿設于液壓缸下端蓋13的活動推桿8與滑塊6接觸,所述活動推桿8外側還套置有復位拉簧7,所述滑塊6下端斜面與夾爪5下部周側的斜契配合,迫使夾爪收攏,以夾持楦坯3上端筒口。?
上述往復活塞10的外周壁與液壓缸的內腔壁之間設置有密封圈12,所述往復活塞10的內腔設置有下端部頂在液壓缸下端蓋上的中心壓簧9。?
上述液壓缸下端蓋12和夾爪為一體成型結構,位于夾爪5兩側的滑塊經橫向貫穿夾爪的螺栓14連接。?
上述夾持轉臂上設置有通往液壓缸的壓力油道。?
工作原理:將前工序加工好的楦坯筒口B處的燕尾形放入圖3中的夾爪5,啟動液壓系統,液壓油經圖示通道由液壓油口11進入液壓缸驅動往復活塞10,再經活動推桿8(銷軸)推動滑塊6下移,由滑塊和夾爪的斜契的作用使夾爪收攏從而夾緊楦坯的筒口。當完成鞋楦加工要卸料時,釋放液壓,往復活塞10在中心壓簧9的作用下上移復位,滑塊6在復位拉簧7的作用下上移復位,夾爪由于本身的彈力作用而張開進入下一個工作循環。?
本發明不局限上述最佳實施方式,凡依本發明申請專利范圍所做的均等變化與修飾,皆應屬本發明的涵蓋范圍。?
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