[發(fā)明專利]具有表面微浮雕結(jié)構(gòu)的金屬鍍層防偽膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110215239.7
• 申請日: 2011-07-25
• 公開（公告）號: CN102903298A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王曉利;朱軍;張寶利;李欣毅;孫凱;張巍巍
• 申請（專利權(quán)）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: G09F3/02
• 分類號: G09F3/02;B32B15/04
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11204
• 代理人: 余朦;王艷春

1.一種防偽膜，包括：

基層，具有第一表面和第二表面；

第一微浮雕結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述第一表面上并至少部分覆蓋所述第一表面；以及

第一金屬鍍層，至少部分覆蓋所述第一微浮雕結(jié)構(gòu)；

其中，所述第一微浮雕結(jié)構(gòu)的光柵參數(shù)與所述第一金屬鍍層的厚度及材質(zhì)相互匹配，以使得在自然光照條件下，所述自然光的一部分光被所述第一金屬鍍層吸收，并在所述自然光的反射譜中形成共振吸收峰，從而使得所述自然光的再現(xiàn)光呈現(xiàn)特定的顏色或偏振特性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，其中，所述光柵參數(shù)包括槽深與光柵周期之比、和光柵周期。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，其中，所述槽深與光柵周期之比為0.3-2，以及所述光柵周期為80nm-1000nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，所述槽深與光柵周期之比為0.4-1，以及所述光柵周期為150nm-400nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，所述金屬鍍層部分地覆蓋第一表面，從而形成鏤空圖案。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，所述金屬鍍層為金、銀、銅、鐵、錫、鋅、鋁、鉻或其合金，所述金屬鍍層的厚度為5nm-500nm，優(yōu)選為30nm-100nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，所述第一表面包括分別設(shè)置有不同的微浮雕結(jié)構(gòu)的多個區(qū)域，以使得不同的區(qū)域在光照下分別呈現(xiàn)不同的光學(xué)特征。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，所述第一表面包括分別設(shè)置有不同的金屬鍍層的多個區(qū)域，以使得不同的區(qū)域在光照下分別呈現(xiàn)不同的光學(xué)特征。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，還包括：

模壓層，涂布于所述第一表面，并且復(fù)制有所述微浮雕結(jié)構(gòu)；以及

剝離層，涂布于所述第一表面與所述模壓層之間；以及

保護層，涂布于所述金屬鍍層的表面。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽膜，還包括至少部分覆蓋所述第二表面的第二微浮雕結(jié)構(gòu)，以及至少部分覆蓋所述第二微浮雕結(jié)構(gòu)第二金屬鍍層，從而使得在所述第一表面和所述第二表面上分別觀察到的反射光具有相同或不同的光學(xué)特征。