[發明專利]活塞環有效
| 申請號: | 201110214662.5 | 申請日: | 2011-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN102345084A | 公開(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發明(設計)人: | 相澤健;久保敬純;大宮隆雄 | 申請(專利權)人: | 日本活塞環株式會社 |
| 主分類號: | C23C4/06 | 分類號: | C23C4/06;F02F5/00;F16J9/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 張平元 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 活塞環 | ||
1.一種活塞環,其在滑動面上依次形成有噴涂基底層和噴涂表面層,所述噴涂基底層通過噴涂至少包含Mo粉末、Ni基自熔性合金粉末、及Cu或Cu合金粉末的混合粉末而形成,所述噴涂表面層含有Cu,其中,
所述噴涂基底層至少含有50~80質量%的Mo、1~12質量%的Cu或Cu合金、以及余量為Ni基自熔性合金,且在該噴涂基底層的滑動面上顯現的Cu或Cu合金相的面積率為0.5~15%,
所述噴涂表面層含有70~100質量%的Cu。
2.根據權利要求1所述的活塞環,其中,所述噴涂基底層的截面上顯現的Cu或Cu合金相的面積率為0.1~10%。
3.根據權利要求1或2所述的活塞環,其是船舶用活塞環。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





