[發(fā)明專利]鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110214166.X
• 申請日: 2011-07-28
• 公開（公告）號: CN102296339A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王志江;姜兆華
• 申請（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04;C25D11/06
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109
• 代理人: 韓末洙

1.鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其是通過以下步驟實(shí)現(xiàn)的：一、清洗鋁基材表面，除去表面油污和雜質(zhì)，所述鋁基材為鋁合金或者鋁基復(fù)合材料；二、配制電解液：按主成膜劑濃度為1g/L～50g/L、著色添加劑濃度為1g/L～50g/L、輔助成膜劑濃度為0g/L～40g/L和絡(luò)合劑濃度為0g/L～20g/L分別稱取主成膜劑、著色添加劑、輔助成膜劑、絡(luò)合劑和水，配制得電解液，其中，主成膜劑為磷酸、硫酸和檸檬酸中的一種或其中幾種的組合物，著色添加劑為含鈷元素的無機(jī)鹽或者有機(jī)鹽；三、將經(jīng)步驟一處理后的鋁基材固定置于盛在不銹鋼槽體中的電解液中，然后以鋁基材為陽極，不銹鋼槽體為陰極，采用直流電源或單向脈沖電源，在電流密度為0.01A/cm²～0.20A/cm²條件下氧化10～180min；四、將經(jīng)步驟三處理后的鋁基材取出，沖洗后自然干燥或在80～100℃下烘干，在鋁基材表面得到藍(lán)色陶瓷膜層，完成鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟一中鋁基材為牌號為LY12、LF3、LD11、LC4、Zl101或L3的鋁合金，或者為以碳化硅、硼酸鋁、硼酸鎂或者氧化鋁為增強(qiáng)體增強(qiáng)的鋁基復(fù)合材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟二中按主成膜劑濃度為4g/L～30g/L、著色添加劑濃度為3g/L～30g/L、輔助成膜劑濃度為0.5g/L～20g/L和絡(luò)合劑濃度為0.5g/L～5g/L分別稱取主成膜劑、著色添加劑、輔助成膜劑、絡(luò)合劑和水。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟二中按主成膜劑濃度為8g/L～20g/L、著色添加劑濃度為8g/L～20g/L、輔助成膜劑濃度為1g/L～10g/L和絡(luò)合劑濃度為0.8g/L～2g/L分別稱取主成膜劑、著色添加劑、輔助成膜劑、絡(luò)合劑和水。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟二中按主成膜劑濃度為8g/L～20g/L、著色添加劑濃度為8g/L～20g/L分別稱取主成膜劑、著色添加劑和水。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟二中著色添加劑為硫酸鈷、醋酸鈷、氯化鈷或者硝酸鈷。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟三中在電流密度為0.04A/cm²～0.12A/cm²條件下氧化90～150min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟三中在電流密度為0.05A/cm²～0.08A/cm²條件下氧化100～140min。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于步驟三采用以下步驟代替：將經(jīng)步驟一處理后的鋁基材固定置于盛在不銹鋼槽體中的電解液中，然后以鋁基材為陽極，不銹鋼槽體為陰極，采用雙相脈沖交流電源，調(diào)整峰值電壓范圍在-200～600V之間，正、負(fù)相電流密度值為0.01A/cm²～0.16A/cm²，頻率為10～2000Hz，正、負(fù)相占空比為0.1～0.45，恒流條件下氧化10～180min。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鋁合金及鋁基復(fù)合材料表面原位生長藍(lán)色陶瓷膜層的方法，其特征在于正、負(fù)相電流密度值為0.05A/cm²～0.09A/cm²，頻率為200～500Hz，正、負(fù)相占空比為0.3～0.45，恒流條件下氧化80～100min。