[發明專利]一種富集痕量速滅威的金屬有機框架分子印跡聚合物的制備方法

有效

• 申請號: 201110212802.5
• 申請日: 2011-07-28
• 公開（公告）號: CN102898566A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 王碩;方國臻;錢坤;王俊平
• 申請（專利權）人: 天津科技大學
• 主分類號: C08F120/06
• 分類號: C08F120/06;C08J3/24;C08J9/26;B01J20/285;B01J20/30
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1.一種富集痕量速滅威的金屬有機框架分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：

(1)先加入金屬有機框架材料MOF-5，再加入溶劑乙腈和速滅威模板，充分攪拌使其完全溶解，然后加入甲基丙烯酸，充分攪拌1h；加入交聯劑四乙氧基硅烷和催化劑乙酸溶液反應0.5h；通氮氣10min，60℃水浴熱聚合20h；

(2)將上述聚合物粉碎，置于索氏萃取器中，加入270mL甲醇和30mL冰乙酸作萃取溶劑，連續萃取48h，至萃取液中無速滅威檢測出為止，60℃真空干燥10h，得到速滅威金屬有機框架分子印跡聚合物；

2.根據權利要求1所述的一種富集痕量速滅威的金屬有機框架材料分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于：金屬有機框架材料與模板分子速滅威的質量比為1∶8.25；四乙氧基硅烷與乙酸的摩爾比例為4.69∶1；速滅威、甲基丙烯酸、四乙氧基硅烷的摩爾比例為1∶4∶2.2；甲醇與冰乙酸的提取液甲醇與冰乙酸的體積比為9∶1。