[發明專利]高溫真空爐無效

申請號：	201110212048.5	申請日：	2011-07-27
公開（公告）號：	CN102331194A	公開（公告）日：	2012-01-25
發明（設計）人：	鄭鐵克	申請（專利權）人：	太倉市華瑞真空爐業有限公司
主分類號：	F27D21/02	分類號：	F27D21/02
代理公司：	蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103	代理人：	孫仿衛
地址：	215416 江蘇省蘇州***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	高溫真空爐
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【權利要求書】：

1.一種高溫真空爐，包括具有內腔的爐本體、設置于內腔開口處的爐蓋（1）、開設于所述的爐蓋（1）上的用于觀察內腔內加工工件運動的觀察孔（2）、驅動所述的加工工件運動的驅動機構，所述的高溫真空爐還包括控制所述的驅動機構的控制箱（3），其特征在于：所述的觀察孔（2）內設置有監控器，所述的控制箱（3）上設置有顯示屏（4），所述的監控器與所述的顯示屏（4）相電連接。

2.根據權利要求1所述的高溫真空爐，其特征在于：所述的爐蓋（1）上設置有兩個所述的觀察孔（2），每個所述的觀察孔（2）內均設置有所述的監控器。

3.根據權利要求1所述的高溫真空爐，其特征在于：所述的觀察孔（2）的開口處設置有封蓋，所述的封蓋將所述的監控器封設于所述的觀察孔（2）內。

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