[發(fā)明專利]一種光刻膠清洗液無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110211526.0 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102902168A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉兵;彭洪修;孫廣勝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安集微電子科技(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/42 | 分類號(hào): | G03F7/42 |
| 代理公司: | 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246 | 代理人: | 李佳銘 |
| 地址: | 201201 上海市浦東新區(qū)華東路*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光刻 清洗 | ||
1.一種光刻膠清洗液,其特征在于,包含:醇胺、3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑以及助溶劑。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗液,其特征在于,所述醇胺的含量為1-80%;所述3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑的含量為0.001-1%;助溶劑的含量為19.999-98.999%;上述含量均為質(zhì)量百分比含量。
3.如權(quán)利要求2所述的清洗液,其特征在于,所述醇胺的含量為5-70%;所述3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑的含量為0.01~0.5%;余量是助溶劑;上述含量均為質(zhì)量百分比含量。
4.如權(quán)利要求3所述的清洗液,其特征在于,所述醇胺的含量為10-60%;所述3-氨基-5-巰基-1,2,4-三氮唑的含量為0.05~0.3%;余量是助溶劑;上述含量均為質(zhì)量百分比含量。
5.如權(quán)利要求1所述的清洗液,其特征在于,所述的醇胺為選自單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、異丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一種或幾種。
6.如權(quán)利要求1所述的清洗液,其特征在于,所述的助溶劑選自亞砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、醇、醚、酰胺中的一種或多種。
7.如權(quán)利要求6所述的清洗液,其特征在于,所述的亞砜為二甲基亞砜;所述的砜為環(huán)丁砜;所述的咪唑烷酮為1,3-二甲基-2-咪唑烷酮;所述的咪唑啉酮為1,3-二甲基-2-咪唑啉酮;所述的酰胺為二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺;所述的醇為丙二醇、二乙二醇;所述的醚為含有羥基的醚。
8.如權(quán)利要求7所述的清洗液,其特征在于,所述的醚為乙二醇醚或丙二醇醚。
9.如權(quán)利要求8所述的清洗液,其特征在于,所述的乙二醇醚為乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚;所述的丙二醇醚為丙二醇乙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單丁醚。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





