[發明專利]一種兩親高分子及其用途有效
| 申請號: | 201110210319.3 | 申請日: | 2011-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN102382242A | 公開(公告)日: | 2012-03-21 |
| 發明(設計)人: | 王金本;徐曉慧;史學峰;韓玉淳;王毅琳;閆海科 | 申請(專利權)人: | 中國科學院化學研究所 |
| 主分類號: | C08F220/56 | 分類號: | C08F220/56;C08F220/06;C08F232/04;C08F212/14;C08F226/02;C08F220/28;C08F220/58;C09K8/588 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人: | 關暢 |
| 地址: | 100080 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高分子 及其 用途 | ||
1.一種兩親高分子,其特征在于:具有調節分子量與分子量分布以及荷電特性作用的結構單元A、高空間位阻結構單元B和兩親結構單元C作為重復結構單元。所述高空間位阻結構單元B含有結構G和式(4)所示的結構,其中所述結構G為以主鏈相鄰兩個碳原子為基礎形成的環狀烴結構或選自式(3)表示的結構:
式(3)????式(4)
式(3)中,R5為H或甲基;優選為H;R6選自如下式(5)-(6)所示的基團:
式(5)????式(6)
式(5)中,a為1-11的整數。
式(4)中,R7為H;R8選自H、-SO3H及其鹽、-(CH2)2CH3Cl、-CH2N+(CH3)2(CH2)ξCH3Cl-或-CH2N+(CH3)2(CH2)2N+(CH3)2(CH2)σCH32Cl-;ξ、σ分別為1-15的整數。
其中所述兩親結構單元C具有式(8)所示的結構:
式(8)
式(8)中,R9為H或甲基,R10為-N+(CH3)2(CH2)rCH3X-、-N+((CH2)sCH3)3X-或-N+(CH3)((CH2)tCH3)2X-;r為3-21的整數,s為2-9的整數,t為3-15的整數,X-為Cl-或Br-。
2.如權利要求1所述的兩親高分子,其特征在于:所述起調節分子量、分子量分布以及荷電特性作用的結構單元A包括(甲基)丙烯酰胺類單體單元A1和/或(甲基)丙烯酸類單體單元A2。
3.如權利要求2所述的兩親高分子,其特征在于:以兩親高分子所有重復單元總數為100mol%計,所述(甲基)丙烯酰胺類單體單元A1在整個兩親高分子所有重復單元中所占的摩爾百分數為70-99mol%;所述(甲基)丙烯酸類單體單元A2在整個兩親高分子所有重復單元中所占的摩爾百分數為1-30mol%。
4.如權利要求1所述的兩親高分子,其特征在于:結構G在整個兩親高分子所有重復單元中所占的摩爾百分數為0.02-2mol%;式(4)所示的結構在整個兩親高分子所有重復單元中所占的摩爾百分數為0.05-5mol%。
5.如權利要求1所述的兩親高分子,其特征在于:以兩親高分子所有重復單元總數為100mol%計,所述式(8)表示的結構單元在整個兩親高分子所有重復單元中所占的摩爾百分數為0.05-10mol%。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院化學研究所,未經中國科學院化學研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110210319.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:面陣探測器光譜響應度測試方法
- 下一篇:用于制備苯并呋喃類化合物的方法





