[發明專利]真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201110210232.6
• 申請日: 2011-07-26
• 公開（公告）號: CN102899620A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 黃水祥
• 申請（專利權）人: 御林汽配（昆山）有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 昆山四方專利事務所 32212
• 代理人: 盛建德

技術領域

本發明屬于鍍膜設備，特別涉及一種在真空沉積腔室內對工件鍍膜的加工裝置。

背景技術

真空鍍膜技術在經濟社會各個領域有著廣泛應用，特別是科技迅速發展、人們生活的不斷提高以及高科技鍍膜產品的不斷涌現，給真空鍍膜技術的發展和推廣應用帶來了新的機遇。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜就是加熱靶材，使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。濺射鍍膜，就是利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

發明內容

為了克服上述缺陷，本發明提供了一種基于真空濺射沉積技術的真空鍍膜裝置，該裝置簡單實用，操作方便。

本發明為了解決其技術問題所采用的技術方案是：一種真空鍍膜裝置，包括真空沉積腔室、位于該真空沉積腔室內的托架和靶材，該托架為表面能放置鍍膜工件的網狀型穹頂結構，該托架之環部通過環狀滾珠軸承支撐在位于該真空沉積腔室內的環形支撐架，該托架之環部側部為齒條，并與位于該真空沉積腔室內的驅動齒輪嚙合，而該驅動齒輪上轉軸延伸出該真空沉積腔室后，由控制馬達驅動轉動，該靶材位于該穹頂結構下方，還設有一個可控制該靶材加熱蒸發的加熱機構，該穹頂結構與該真空沉積腔室頂部之間至少設有一個能對該托架上的工件加熱的預加熱機構。

作為本發明的進一步改進，該加熱機構為安裝于該真空沉積腔室內的、可放置該靶材的槽狀金屬加熱體，該槽狀金屬加熱體兩側設有一對電極，該對電極另一端引出于該真空沉積腔室后，分別與電源變壓器之次級繞組引出端連接。

作為本發明的進一步改進，該預加熱機構為電熱絲加熱體或紅外加熱體。

作為本發明的進一步改進，該托架頂部設有一個通孔，該通孔與該真空沉積腔室之間設有一個鍍膜厚度檢測機構，該鍍膜厚度檢測機構包括帶有臺階孔的固定座、置于該固定座之臺階孔內的透明測試片以及位于該真空沉積腔室外且用于觀測該透明測試片的影像傳感器，該固定座設置于該通孔與該真空沉積腔室頂部下方之間，且該固定座之臺階孔針對該通孔設置，該影像傳感器可通過該真空沉積腔室頂部上由透明玻璃材質組成的觀察窗接收該透明測試片鍍膜信息。

作為本發明的進一步改進，該真空沉積腔室側部設有操作門，便于裝卸該托架上鍍膜工件。

本發明的有益技術效果是：所述托架呈網狀的穹頂結構，并通過驅動馬達和驅動齒輪來控制其支撐于環狀支撐架轉動，而所述靶材位于該托架之穹頂結構下方，這樣所述靶材經加熱機構加熱后，其組分揮發到穹頂結構上的工件，達到真空鍍膜目的，與此同時所述托架與所述真空沉積腔室之間還設有預加熱機構，保證真空鍍膜具有足夠高溫。

所述鍍膜厚度檢測機構通過影像傳感器接收位于所述真空沉積腔室內透明測試片上的鍍膜效果來達到檢測工件實際鍍膜效果。

附圖說明

圖1為本發明的半剖視結構示意圖。

對照以上附圖，作如下補充：

1——真空沉積腔室????????????????71——槽狀金屬加熱體

11——環部???????????????????????72——電極

12——環狀滾珠軸承???????????????73——電源變壓器

2——托架????????????????????????81——電熱絲加熱體

3——靶材????????????????????????91——固定座

4——環形支撐架??????????????????92——透明測試片

5——驅動齒輪????????????????????93——影像傳感器

6——控制馬達????????????????????100——工件

具體實施方式