[發明專利]一種新型的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備無效
| 申請號: | 201110209427.9 | 申請日: | 2011-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN102896114A | 公開(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發明(設計)人: | 王守國;趙玲利 | 申請(專利權)人: | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號: | B08B7/00 | 分類號: | B08B7/00;H05H1/30;H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 常壓 介質 阻擋 口型 活性 自由基 清洗 設備 | ||
1.一種新型的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,包括一個殼體、高壓電極、介質阻擋層、接地電極、電源、移動機械手以及進氣和排氣系統。該設備的特性在于在一個長方形的殼體內設有一個高壓電極和地電極,該兩個電極之間設有兩個介質阻擋層,在該兩個介質阻擋層之間設有一個放電間隙產生等離子體,在一定壓力的氣流帶動下,放電間隙所產生的高活性自由基由扁口型噴口噴射出來,在噴射到需要處理的物體表面時,去除物體表面的有機物質。本發明產生的活性自由基可用于硅片無損傷去膠和有機物清洗。
2.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:在高壓電極和地電極之間設有兩個介質阻擋層,該兩個介質阻擋層的形狀都為L形,在該兩個介質阻擋層之間設有一個放電間隙,該間隙的尺度范圍是0.5-5毫米。
3.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:兩個介質阻擋層之間的放電間隙的一端通過氣管與供氣源貫通,另一端形成一個長條形噴口,在放電間隙的兩側設有絕緣材料密封。
4.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:該高壓電極與地電極分別帖覆在兩個介質阻擋層的兩側,高壓電極與一個高頻高壓電源連接,地電極與殼體連接并接大地。
5.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:該高頻高壓電源的輸出峰-峰電壓值大于3000伏。
6.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:放電區所采用的氣體是氬氧混合氣體、也可以是氧氣或是潔凈的空氣,氣體的流量是大于5升/分鐘。
7.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:該自由基發生器設備由機械手控制可以實現三維的移動。
8.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:該設備設有排氣罩和排氣管道,使剩余的自由基束流和與有機物反應后的產物排出。
9.如權利1所述的常壓雙介質阻擋扁口型活性自由基清洗設備,其特性在于:該硅片襯底下設有加熱裝置,在清洗時,硅片的溫度可以被加熱到200℃以內。
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