[發(fā)明專利]光盤介質(zhì)及其再現(xiàn)方法、再現(xiàn)裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110206257.9
• 申請日: 2011-07-15
• 公開（公告）號: CN102419994A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發(fā)明（設計）人: 飯塚純也
• 申請（專利權）人: 日立樂金資料儲存股份有限公司;日立民用電子株式會社
• 主分類號: G11B20/14
• 分類號: G11B20/14;G11B7/24;G11B7/005
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種光盤介質(zhì)，其特征在于：

具有螺旋狀地配置有坑的軌道結構，

所記錄的坑序列中以一定間隔配置有同步碼，

所述軌道在半徑方向上擺動，

該擺動的周期的一半的整數(shù)倍與該同步碼的配置間隔一致，

在所述軌道的擺動量大致為零的位置上存在所述同步碼。

2.一種光盤介質(zhì)，其特征在于：

具有螺旋狀地配置有坑的軌道結構，

所記錄的信息具有以一定量的數(shù)據(jù)量為單位的扇區(qū)結構，

該扇區(qū)內(nèi)存在頭信息，

所記錄的坑序列中以一定間隔存在記錄有頭信息的區(qū)域，

該軌道使坑配置在半徑方向上擺動，

該擺動的周期的一半的整數(shù)倍與配置所述頭信息的間隔一致，

在所述軌道的擺動量大致為零的位置上存在記錄有所述頭信息的區(qū)域。

3.如權利要求1或2所述的光盤介質(zhì)，其特征在于：

所述軌道的擺動量，比半徑方向上鄰接的軌道的間隔的1/4小。

4.如權利要求1或2所述的光盤介質(zhì)，其特征在于：

所述軌道的擺動量，為半徑方向上鄰接的軌道的間隔的1/8左右。

5.一種光盤再現(xiàn)方法，其特征在于：

使光盤介質(zhì)以轉速F_rot旋轉，

所述光盤介質(zhì)具有螺旋狀地配置有坑的軌道結構，

該軌道在半徑方向上擺動，

該擺動的周期在圓周方向為T_wob，

所述光盤再現(xiàn)方法，

對于存在于半徑位置R的位置處的所述軌道，

利用具有式1關系的頻帶寬度F_c的特性的控制系統(tǒng)進行跟蹤伺服，

根據(jù)跟蹤誤差信號，生成具有與該半徑位置處的通道頻率成比例的頻率的頻率參考信號，

基于該頻率參考信號進行PLL的頻率捕捉，其中，

式1為T_wob＜2π×R×F_rot/F_c。

6.一種光盤再現(xiàn)方法，其特征在于：

使光盤介質(zhì)以轉速F_rot旋轉，

所述光盤介質(zhì)具有螺旋狀地配置有坑的軌道結構，

該軌道在半徑方向上擺動，

該擺動的周期在圓周方向為T_wob，

所述光盤再現(xiàn)方法，

對于存在于半徑位置R的位置處的所述軌道，

利用具有式5關系的頻帶寬度F_c的特性的控制系統(tǒng)進行跟蹤伺服，

根據(jù)該跟蹤伺服中使用的補償器的輸出信號和跟蹤驅(qū)動信號中的任一個，生成具有與該半徑位置處的通道頻率成比例的頻率的頻率參考信號，

基于該頻率參考信號進行PLL的頻率捕捉，其中，

式5為T_wob＞2π×R×F_rot/F_c。