[發(fā)明專(zhuān)利]磁共振成像方法、磁共振成像裝置及其控制裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110205606.5 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102342832A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梅田匡朗;鐮田光和 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝;東芝醫(yī)療系統(tǒng)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | A61B5/055 | 分類(lèi)號(hào): | A61B5/055 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 高科 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁共振 成像 方法 裝置 及其 控制 | ||
本申請(qǐng)基于巴黎公約將申請(qǐng)日為2010年7月23日的日本專(zhuān)利申請(qǐng)2010-166271和申請(qǐng)日為2011年6月29日的日本專(zhuān)利申請(qǐng)2011-144834作為優(yōu)先權(quán)基礎(chǔ),享受它們的優(yōu)先權(quán)。本申請(qǐng)通過(guò)援引這些申請(qǐng)而包含這些申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的實(shí)施方式涉及磁共振成像方法、磁共振成像裝置及其控制裝置。
背景技術(shù)
MRI是用拉莫爾(Larmor)頻率的RF脈沖磁激勵(lì)放置在靜磁場(chǎng)中的受檢體的原子核自旋,根據(jù)伴隨該激勵(lì)產(chǎn)生的MR信號(hào)重建圖像的拍攝法。另外,上述MRI是指磁共振成像(Magnetic?Resonance?Imaging),RF脈沖是指高頻脈沖(Radio?frequency?pulse),MR信號(hào)是指核磁共振信號(hào)(Nuclear?magnetic?resonance?signal)。
已知傾斜磁場(chǎng)分布的畸曲是MRI的圖像質(zhì)量劣化的主要原因之一。理想地,體層選擇方向、相位編碼方向、頻率編碼方向的各傾斜磁場(chǎng)的分布是例如磁場(chǎng)強(qiáng)度與沿施加方向的位置對(duì)應(yīng)而線性地變化。但是實(shí)際情況是,一旦向傾斜磁場(chǎng)線圈供給脈沖電流,就會(huì)產(chǎn)生渦電流,在傾斜磁場(chǎng)上疊加因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng),發(fā)生傾斜磁場(chǎng)分布的畸曲。
通常的渦電流補(bǔ)償,由于以因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的各成分中的、在空間上呈線形變化的一次成分為對(duì)象,修正傾斜磁場(chǎng)波形的輸入,所以不能對(duì)因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的二次以上的成分進(jìn)行補(bǔ)償。于是,有通過(guò)使電流流過(guò)高次的調(diào)整線圈而對(duì)因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的二次以上的成分進(jìn)行補(bǔ)償?shù)募夹g(shù)。
另外,在日本特開(kāi)平3-195539號(hào)公報(bào)中記載了,通過(guò)從預(yù)先設(shè)置的多個(gè)渦電流補(bǔ)償電路中選擇一個(gè)或多個(gè)來(lái)對(duì)因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)進(jìn)行補(bǔ)償?shù)臉?gòu)成。
發(fā)明內(nèi)容
一般地,離磁場(chǎng)中心越遠(yuǎn),傾斜磁場(chǎng)分布的畸曲越大。因此,在只對(duì)因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的一次成分進(jìn)行補(bǔ)償?shù)默F(xiàn)有技術(shù)中,尤其在以偏離中心區(qū)(off-center)為拍攝區(qū)域時(shí),由于存在因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的二次以上的成分,伴隨著傾斜磁場(chǎng)分布的畸曲產(chǎn)生圖像質(zhì)量劣化。另外,上述偏離中心區(qū)是指離開(kāi)磁場(chǎng)中心的位置。
利用高次調(diào)整線圈對(duì)因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的二次以上的成分進(jìn)行補(bǔ)償?shù)默F(xiàn)有技術(shù)有為了避免與其它線圈耦合等的影響而設(shè)置例如幾秒鐘的等待時(shí)間的缺點(diǎn)。另外,有時(shí)高次調(diào)整成分與因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的高次成分的信道不對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō),即使調(diào)整線圈僅僅具有補(bǔ)償XZ、YY等的各二次成分的各線圈,在因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)的三次成分、四次成分大時(shí),也不能充分地補(bǔ)償因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)。
本發(fā)明要解決的問(wèn)題是,具有用來(lái)通過(guò)簡(jiǎn)單地補(bǔ)償因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)成分來(lái)改善圖像質(zhì)量的與以往不同的技術(shù)的MRI裝置及其控制裝置、MRI方法。
在一個(gè)實(shí)施方式中,MRI裝置包括:信號(hào)收集部、圖像生成部、位置取得部和修正部。信號(hào)收集部通過(guò)在放置受檢體的拍攝空間內(nèi)施加傾斜磁場(chǎng)和RF脈沖,收集從受檢體產(chǎn)生的磁共振信號(hào)。圖像生成部基于磁共振信號(hào)對(duì)受檢體的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行重建。位置取得部取得拍攝區(qū)域,作為拍攝空間內(nèi)的位置信息。修正部通過(guò)以使得因伴隨著傾斜磁場(chǎng)的施加產(chǎn)生的渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)即渦電流磁場(chǎng)相抵銷(xiāo)的方式,根據(jù)位置信息和渦電流磁場(chǎng)的時(shí)間常數(shù)使傾斜磁場(chǎng)的波形變形,從而使產(chǎn)生的傾斜磁場(chǎng)分布接近目標(biāo)分布。如果采用上述構(gòu)成的MRI裝置,則可以通過(guò)簡(jiǎn)單地補(bǔ)償因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)成分來(lái)改善圖像質(zhì)量。
在一個(gè)實(shí)施方式中,控制裝置是MRI裝置的控制裝置,該MRI裝置通過(guò)向傾斜磁場(chǎng)線圈供給電流而在放置受檢體的拍攝空間內(nèi)施加傾斜磁場(chǎng),伴隨傾斜磁場(chǎng)執(zhí)行受檢體的磁共振成像,該控制裝置包括上述位置取得部和上述修正部。如果采用上述構(gòu)成的MRI裝置的控制裝置,則可以通過(guò)簡(jiǎn)單地補(bǔ)償因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)成分來(lái)改善圖像質(zhì)量。
在一個(gè)實(shí)施方式中,MRI方法包括:取得步驟、修正步驟、收集步驟和重建步驟。在取得步驟中,取得MRI的拍攝區(qū)域,作為在放置受檢體的拍攝空間內(nèi)的位置信息。在修正步驟中,通過(guò)以使得因伴隨著傾斜磁場(chǎng)的施加產(chǎn)生的渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)即渦電流磁場(chǎng)相抵銷(xiāo)的方式,基于上述位置信息和渦電流磁場(chǎng)的時(shí)間常數(shù)使傾斜磁場(chǎng)的波形變形,從而使產(chǎn)生的傾斜磁場(chǎng)的分布接近目標(biāo)分布。在收集步驟中,通過(guò)在拍攝空間內(nèi)施加通過(guò)修正步驟變形了的傾斜磁場(chǎng)和RF脈沖,收集從受檢體產(chǎn)生的磁共振信號(hào)。在重建步驟中,基于磁共振信號(hào)對(duì)受檢體的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行重建。如果采用上述構(gòu)成的MRI方法,則可以通過(guò)簡(jiǎn)單地補(bǔ)償因渦電流所導(dǎo)致的磁場(chǎng)成分來(lái)改善圖像質(zhì)量。
附圖說(shuō)明
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