[發(fā)明專利]形成圖案的方法及采用該方法形成有圖案的殼體無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110203623.5 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102890403A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周景瑜;吳長(zhǎng)錦 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/00 | 分類號(hào): | G03F7/00;G03F7/20;G03F7/30;G03F7/42 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 形成 圖案 方法 采用 殼體 | ||
1.一種形成圖案的方法,其用于在物件的曲面上形成圖案,其包括以下步驟:
在所述曲面上形成光阻層,所述光阻層的材料為負(fù)光阻材料;
提供光罩,使所述光罩設(shè)置于所述曲面上方,且所述光罩上開設(shè)有透光孔,所述透光孔的形狀與所述圖案的形狀相對(duì)應(yīng);
提供光源,并對(duì)形成于所述曲面的光阻層進(jìn)行曝光;
對(duì)經(jīng)過(guò)曝光的光阻層進(jìn)行顯影;
對(duì)顯影后的光阻層進(jìn)行清洗,以在所述曲面上形成所述圖案。
2.如權(quán)利要求1所述的形成圖案的方法,其特征在于:所述光罩包括與所述物件的曲面形狀相同的曲面,使所述光罩的曲面與所述物件的曲面相對(duì)應(yīng)設(shè)置,所述透光孔的形狀與所述圖案的形狀相同。
3.如權(quán)利要求1所述的形成圖案的方法,其特征在于:所述光罩為平板結(jié)構(gòu),并通過(guò)計(jì)算機(jī)模擬得到所述透光孔的形狀與所述圖案的形狀的對(duì)應(yīng)關(guān)系,以在所述光罩上開設(shè)所述透光孔。
4.如權(quán)利要求1所述的形成圖案的方法,其特征在于:所述物件的材料為金屬、塑料、玻璃或陶瓷。
5.如權(quán)利要求1所述的形成圖案的方法,其特征在于:所述曲面為內(nèi)凹曲面或外凸曲面。
6.一種形成圖案的方法,其用于在物件的曲面上形成圖案,其包括以下步驟:
在所述曲面上形成光阻層,所述光阻層的材料為正光阻材料;
提供光罩,使所述光罩設(shè)置于所述曲面上方,且所述光罩上開設(shè)有透光孔,以使所述光罩的形狀與所述圖案的形狀相對(duì)應(yīng);
提供光源,并對(duì)形成于所述曲面的光阻層進(jìn)行曝光;
對(duì)經(jīng)過(guò)曝光的光阻層進(jìn)行顯影;
對(duì)顯影后的光阻層進(jìn)行清洗,以在所述曲面上形成所述圖案。
7.如權(quán)利要求6所述的形成圖案的方法,其特征在于:所述光罩包括與所述物件的曲面形狀相同的曲面,使所述光罩的曲面與所述物件的曲面相對(duì)應(yīng)設(shè)置,所述光罩的曲面形狀與所述圖案的形狀相同。
8.如權(quán)利要求6所述的形成圖案的方法,其特征在于:所述光罩為平板結(jié)構(gòu),并通過(guò)計(jì)算機(jī)模擬得到所述光罩的形狀與所述圖案的形狀的對(duì)應(yīng)關(guān)系,以在所述光罩上開設(shè)所述透光孔。
9.一種殼體,其包括曲面,且該曲面上形成有圖案,其特征在于:該圖案由光阻層經(jīng)過(guò)曝光顯影制成。
10.如權(quán)利要求9所述的殼體,其特征在于:所述殼體的曲面為內(nèi)凹曲面或外凸曲面。
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