[發明專利]一種碳化硅冶煉爐側墻與地面間的密封無效
| 申請號: | 201110202760.7 | 申請日: | 2011-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN102344139A | 公開(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發明(設計)人: | 段曉燕 | 申請(專利權)人: | 段曉燕 |
| 主分類號: | C01B31/36 | 分類號: | C01B31/36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 碳化硅 冶煉 爐側墻 地面 密封 | ||
技術領域
本發明屬于碳化硅冶煉技術領域,涉及到一種碳化硅冶煉爐爐內氣體被抽出爐外時側墻與地面間的密封。
背景技術
碳化硅冶煉爐由端墻、側墻、爐床組成。現有碳化硅生產技術無法將冶煉爐內的氣體安全抽出,以實現氣體收集兼負壓冶煉的目的。一方面使大量CO氣體在冶煉爐表面燃燒后形成CO2直接排入大氣,既浪費了資源又增加了碳的排放量,無法實現節能減排、低碳環保的生產要求,另一方面無法實現負壓冶煉而降低產品電耗。
發明內容
從爐內安全抽出氣體的關鍵是爐內小環境和爐外大環境間密封的實現,以便做到爐內空間和爐外空氣的隔離,使爐內空間因抽氣而氣壓不高于大氣壓時空氣不能進入爐內。當空氣進入爐內后會形成混合氣體,而混合氣體遇火是易爆的。
由于冶煉爐的大型化,冶煉爐兩側往往是由數塊甚至幾十塊側墻組裝而成的,因此爐內小環境和爐外大環境間的密封,通常包括側墻與側墻之間、側墻與地面之間、側墻與端墻間等幾個方面。
段曉燕于2011年7月1日提交了“一種收集碳化硅冶煉爐氣體的爐側墻”的發明專利申請,涉及到了側墻的結構及側墻在冶煉爐上組裝后其間縫隙的密封,未涉及到側墻與地面等的密封。
本發明的目的是針對現有碳化硅冶煉技術不能很好的密封側墻與地面間縫隙的現狀,提供一種側墻與地面間廉價、方便可靠的密封,以實現安全抽出爐內氣體。端墻與側墻間的密封將在另案申請。
目前已公開的密封是對爐外加裝的罩體下端采用水封法,還沒有側墻與地面間水封法的報道。側墻與地面間的水封法即在側墻與地接觸的縫隙處充滿水,以水封堵氣體。水封法雖然密封效果好,但因為大氣壓力的作用,很難滿足較大抽力時的需求。我們知道,一個大氣壓等于10米高水柱,當在爐內實現0.9個大氣壓的負壓時便要求1米的水深,負壓值更小時要求水的深度更深,而水的深度是靠溝槽深來實現的,這在現場是很難實現的,現場是不允許有很深的溝槽的,這會給現場的作業帶來很大的困難。一方面作業現場溝槽的存在使作業既不安全又不方便,另一方面溝槽自身的維護費用很高。
本發明的技術方案是這樣的:一種碳化硅冶煉爐側墻與地面間的密封,由密封膏、側墻墊、側墻組成。將側墻在冶煉爐上組裝完成裝爐作業后,將密封膏粘附于側墻墊上,直接以粘附的密封膏填堵側墻與地面間的縫隙或以粘附的密封膏粘結密封布以實現側墻與地面間縫隙的密封。
所述密封膏為具有好的塑性的粘性材料?,F場可選用塑性好的粘土用水調和而成,在水的浸潤作用下要求不分散、不呈流動態。為增加粘塑性必要時可加入外加劑。為保證粘土調和而成的密封膏的粘塑性,使其不干裂,采用水浸潤的辦法。
所述側墻墊與側墻的接觸面要求平正,現場通常用砼澆筑而成。側墻墊要求深埋地下并具有一定的強度,保證其在因季節變化而引起冷暖變化及其它外力作用下不變形,并要求和大地的土壤緊密接觸,且自身致密不透氣,以防止空氣沿側墻墊邊緣或穿過側墻墊而進入爐內,與爐內氣體混合而形成混合氣體,必要時要在側墻墊周圍的土壤中澆水浸潤,以封堵空氣。為保證密封膏浸潤水的存在,可在其上做一槽型而盛裝浸潤水。因冶煉爐長度一般都在十幾至一百余米之間,對應側墻組裝后也有相應的長度,為防止溫度應力引起的側墻墊的變形,通常將側墻墊沿長度方向分段制作,段與段之間仍采用密封膏填充以密封。為防止密封膏干裂同樣以水浸潤。
所述側墻就是已公開的不透氣側墻。
本發明具有如下顯著效果:
1、本發明結構合理,制作簡單,取材容易,成本低廉。
2、本發明現場操作簡便可靠,密封工作容易實現且密封成本低廉。
附圖說明
圖1為碳化硅冶煉爐俯視示意圖。
圖2為本發明圖1所示冶煉爐的A-A截面示意圖。
圖3為本發明圖2局部B放大示意圖。
圖4為本發明圖2局部B另一形式放大示意圖。
1-側墻
2-端墻
3-電極
4-爐料
5-爐床
6-基土
7-浸潤水
8-密封膏
9-側墻墊
10-密封布
11-壓料
具體實施方式
本發明實施方式結合附圖加以說明:
實施例一:
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