[發明專利]一種無氰無銅鍍鎳新工藝無效
| 申請號: | 201110201667.4 | 申請日: | 2011-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN102888635A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發明(設計)人: | 翟滿義 | 申請(專利權)人: | 翟滿義 |
| 主分類號: | C25D5/34 | 分類號: | C25D5/34;C25D3/12;C25F1/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 301900 天津市*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 無氰無銅鍍鎳 新工藝 | ||
1.一種無氰無銅鍍鎳新工藝,其特征在于采用除脂-鍍鎳兩道工序取代當前采用的除脂-鍍銅-鍍鎳三道工序,適用于銅、鐵等零件的直接鍍鎳。
2.按照權利要求1所述的無氰無銅鍍鎳新工藝,其特征在于鍍前使用磷、碳、堿三合一電解除脂劑進行除脂,其配方為:
磷酸三鈉????20-40g/L;
碳氧????????25-45g/L;
工業堿??????10-25g/L;
其余為水。
3.按照權利要求1所述的無氰無銅鍍鎳新工藝,其特征在于磷碳堿三合一電解除脂劑配制步驟為:
①槽內水溫70-100℃;
②磷酸三鈉,溫水溶解后入槽;
③碳氧,置于編織袋內,懸于溶液中自然溶解;
④工業堿,溫水溶解后入槽;
⑤加水至規定體積。
4.按照權利要求1所述的無氰無銅鍍鎳新工藝,其特征在于鍍液中使用790光亮劑,其配方為:
糖精(C7H5NO3S)??0.5-2g/L;
工業鹽(NaCl)????3-10g/L;
十二烷基硫酸鈉??0.3-0.8g/L;
其余為無鈣純凈水。
5.按照權利要求1所述的無氰無銅鍍鎳新工藝,其特征在于鍍液配方及配制步驟:
①槽內水溫40-60℃;
②加入790光亮劑,用量25g/L;
③加入硼酸,用量25g/L;
④加入硫酸鎳,用量0.25L/L;
⑤加無鈣純凈水至規定體積。
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