[發明專利]實現一次曝光的切趾裝置及方法

無效

• 申請號: 201110200375.9
• 申請日: 2011-07-18
• 公開（公告）號: CN102221727A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發明（設計）人: 何偉
• 申請（專利權）人: 武漢理工大學
• 主分類號: G02B6/124
• 分類號: G02B6/124;H04B10/12
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 王守仁

1.?實現一次曝光切趾裝置，其特征是主要由紫外光（1）、聚焦柱透鏡（3）、相位掩模板（4）、光敏光纖（5）和凹形柱面反射鏡（10）組成，它們依次排列在紫外光路上。

2.?根據權利要求1所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征是所述凹形柱面反射鏡（10）由基底（13）和高反射膜（14）組成，基底（13）的凹形柱面需要光學表面，其上針對寫光柵的紫外光（1）鍍高反射膜（14）。

3.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征是所述基底（13）由玻璃制成，該玻璃為普通光學玻璃或石英玻璃。

4.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征是所述高反射膜（14）由金屬膜制成，該金屬膜的材料包括鋁。

5.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征是所述的高反射膜（14）由多層介質膜制成，該多層介質膜的材料包括氧化鋯和氧化硅。

6.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征在于所述的凹形柱面反射鏡（10）的凹形柱面曲率半徑???????????????????????????????????????????????由紫外光（1）的波長，相位掩模板（4）的條紋周期，以及所寫光纖光柵（6）的長度來決定，計算公式為：

???????????????????????????????（1）。

7.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征在于所述凹形柱面反射鏡（10）上的高反射膜（14）的長度由所寫光纖光柵（6）的長度來決定，計算公式為：

?????????????????????????????????????????（2）。

8.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征在于所述的凹形柱面反射鏡（10）的凹形柱面高度由平行紫外光（1）的高度，聚焦柱透鏡的焦距，及凹形柱面的曲率半徑來決定，需滿足以下關系：

????????????????????????????????????????（3）。

9.?根據權利要求2所述的實現一次曝光切趾裝置，其特征在于所述的凹形柱面反射鏡（10）的柱面軸線與光敏光纖（5）重合；高反射膜（14）的長度的中點與光纖光柵（6）的長度的中點的連線與入射的紫外光（1）光束中軸線重合。

10.?實現一次曝光切趾方法，其特征是利用權利要求1至9中任一權利要求所述一次曝光切趾裝置，來實現基于凹形柱面反射鏡的一次曝光切趾方法，具體是：具有切趾分布的紫外光（1）經過聚焦柱透鏡（3）聚焦，透過相位掩模板（4）在光敏光纖（5）上寫光纖光柵（6）；透過相位掩模板（4）的紫外光（1）形成的兩束一級衍射光（9），入射到凹形柱面反射鏡（10）后，由凹形柱面反射鏡（10）分別將兩束一級衍射光（9）的一半反射回去，反射回去的兩束反射光（12）在光纖光柵（6）上重新聚焦，其焦線在光纖光柵（6）處正好首尾相連，連起來的焦線剛好將光纖光柵（6）完全覆蓋，并形成反切趾分布對光纖光柵（6）進行折射率直流整形曝光，完成切趾光纖光柵的制作。