[發(fā)明專利]光反應(yīng)性聚合物及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110197337.2 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102372808A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-03-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔大勝;全成浩;元永喆;柳東雨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | LG化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C08F132/08 | 分類號(hào): | C08F132/08;C08F232/08;C08G61/08;C09K19/56;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;王榮 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光反應(yīng) 聚合物 及其 制備 方法 | ||
1.一種光反應(yīng)性聚合物,其特征在于,包含含量為總聚合物的50mol%以上的由下述化學(xué)式3或4表示的重復(fù)單元:
[化學(xué)式3]?????????????????????????????[化學(xué)式4]
在化學(xué)式3或4中,n為50~5000,p為0~4的整數(shù),
R1、R2、R3和R4中的至少一個(gè)是選自由下述化學(xué)式1a、1b及1c所組成的組中的基團(tuán),
其余的R1、R2、R3和R4分別獨(dú)立地選自由氫;鹵素;取代或未取代的C1~C20烷基;取代或未取代的C2~20烯基;取代或未取代的C2~20炔基、取代或未取代的C3~12環(huán)烴基;取代或未取代的C6~40的芳基;以及包含選自氧、氮、磷、硫、硅及硼中的至少一種的極性官能團(tuán)所組成的組中,
其中,當(dāng)所述R1~R4均不為氫、鹵素、或者極性官能團(tuán)時(shí),R1和R2或者R3和R4相互連接而形成C1~C10的烷叉基,或者R1或R2與R3及R4中的一個(gè)連接而形成C4~C12的飽和或不飽和的環(huán)或者形成C6~C24的芳族環(huán),
[化學(xué)式1a]
[化學(xué)式1b]
或者
[化學(xué)式1c]
所述化學(xué)式1a、1b或1c中,n1、p1、r1及m1為0~4的整數(shù),n2、p2、r2及m2為0~5的整數(shù),
A為取代或未取代的C1~C20亞烷基、羰基、羧基、取代或未取代的C6~C40亞芳基或者單鍵,
B為氧、硫、-NH-或者單鍵,
R9為單鍵、取代或未取代的C1~C20的亞烷基、取代或未取代的C2~C20的亞烯基、取代或未取代的C2~C20的亞炔基、取代或未取代的C3~C12的亞環(huán)烴基、取代或未取代的C6~C40的亞芳基、或者取代或未取代的C7~C15的亞芳烷基,
R10及R11獨(dú)立地為氫、鹵素、取代或未取代的C1~C20烷基、取代或未取代的C1~C20烷氧基、取代或未取代的C6~C30的芳氧基、或者取代或未取代的C6~C40芳基。
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