[發(fā)明專利]檢測裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110195145.8 | 申請日: | 2011-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN102331428A | 公開(公告)日: | 2012-01-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 具昶根 | 申請(專利權(quán))人: | 韓美半導(dǎo)體株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/89 | 分類號: | G01N21/89;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 韓國仁*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測 裝置 | ||
1.一種檢測裝置,用于檢測一方向擁有延伸條紋狀的多個鋸痕(SM)的表面上連續(xù)形成的晶片(W),其特征在于,包括:
一傳輸單元(10),在一方向中連續(xù)及水平傳送晶片(W);
一相機(20),其配置在晶片(W)的傳送路徑,及拍攝由所述傳輸單元(10)傳送的晶片(W);
一照明單元(30),其相對于所述相機(20)的配置,且提供光給晶片(W)以拍攝晶片(W);及
一棱鏡片(40),其位于所述相機(20)與所述照明單元(30)之間,所述棱鏡片(40)為于一方向擁有延伸條紋狀的多個不平坦圖案(41)的表面上連續(xù)形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置,其特征在于,所述棱鏡片(40)的不平坦圖案(41)延伸方向與晶片(W)的傳輸方向相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢測裝置,其特征在于,所述晶片(W)的鋸痕(SM)與所述棱鏡片(40)的不平坦圖案(41)彼此維持正交。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢測裝置,其特征在于,所述照明單元(30)在光出口表面擁有一半球形透鏡(32)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢測裝置,其特征在于,當(dāng)拍攝晶片(W)時,所述照明單元(30)發(fā)出紅外線光,且所述相機(20)包括一紅外線相機,以拍攝晶片(W)紅外線影像。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測裝置,其特征在于,所述紅外線光的波長為800至2000nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢測裝置,其特征在于,所述棱鏡片(40)與照明單元(30)分開預(yù)定距離。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





