[發(fā)明專利]水基6H-SiC單晶襯底化學(xué)機(jī)械拋光液及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110192011.0 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102337082A | 公開(公告)日: | 2012-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇建修;高虹;鄭素真;洪源;陳錫渠;杜家熙;付素芳;王占合 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河南科技學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C09G1/02 | 分類號(hào): | C09G1/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 453003 河南省新*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水基 sic 襯底 化學(xué) 機(jī)械拋光 及其 制備 方法 | ||
1.一種水基6H-SiC單晶襯底化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于,其組分與重量百分比如下:
磨料選用納米SiO2水溶膠或Al2O3或納米金剛石微粉之一或其混合物。
2.按照權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:所述的納米SiO2水溶膠、Al2O3及納米金剛石微粉的粒徑是10~250nm。
3.按照權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:所述的分散穩(wěn)定劑為一種高分子表面活性劑,所述分散穩(wěn)定劑為聚乙烯醇、聚丙二醇、壬基酚聚氧乙烯醚中的一種或兩種或三種的混合物,按重量百分比計(jì),其在拋光液中的總濃度為0.05~15%。
4.按照權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:所述PH值調(diào)節(jié)劑為氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀、乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二羥乙基乙二胺中的一種或兩種以上的混合物,調(diào)節(jié)PH值處于9.5~13.5之間。
5.按照權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:所述的化學(xué)添加劑為1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、乙醇胺、三乙醇胺、1,3-丁二醇、過氧化氫中的一種或兩種或三種的混合物。
6.按照權(quán)利要求1所述化學(xué)機(jī)械拋光液,其特征在于:所述的潤滑劑為一種球形納米粉末,其粒徑為1~5nm。
7.一種水基6H-SiC單晶襯底化學(xué)機(jī)械拋光液的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)取適量的去離子水與分散穩(wěn)定劑經(jīng)超聲或攪拌成均勻的去離子水混合溶液備用,其中分散穩(wěn)定劑在混合溶液中的重量百分比為:0.01~10%;
(2)按一定比例在上述備用液中加入磨料,經(jīng)超聲或攪拌,分散均勻,磨料選用納米SiO2水溶膠或Al2O3或納米金剛石微粉之一或其混合物;
(3)加入適量的化學(xué)添加劑,經(jīng)超聲或攪拌,分散均勻;
(4)加入適量的潤滑劑,經(jīng)超聲或攪拌,分散均勻;
(5)加入pH值調(diào)節(jié)劑,調(diào)節(jié)pH值,攪拌或超聲,使pH值達(dá)到9.5~13.5,即可制得所需要的拋光液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的的制備方法,其特征在于,所述pH值調(diào)節(jié)劑是氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀、乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二羥乙基乙二胺的一種或多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的的制備方法,其特征在于,所述的納米SiO2水溶膠、Al2O3及納米金剛石微粉的粒徑是10~250nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的的制備方法,其特征在于,所述的化學(xué)添加劑為1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、乙醇胺、三乙醇胺、1,3-丁二醇、過氧化氫中的一種或兩種或三種的混合物。
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