[發明專利]銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料、制備方法及其應用有效
| 申請號: | 201110191521.6 | 申請日: | 2011-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN102863952A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發明(設計)人: | 周明杰;王平;陳吉星;張振華 | 申請(專利權)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/55 | 分類號: | C09K11/55;H01L33/50 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
| 地址: | 518100 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 銪鏑共 摻雜 硫酸鈣 發光 材料 制備 方法 及其 應用 | ||
1.一種銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料,其特征在于:其化學式為CaSO4:xEu3+,yDy3+,其中0.0008≤x≤0.0157,0.0007≤y≤0.0297。
2.根據權利要求1所述的銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料,其特征在于,x為0.0039,y為0.0097。
3.一種銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、根據CaSO4:xEu3+,yDy3+各元素的化學計量比稱取CaSO4,Eu2O3和Dy2O3粉體并混合均勻,其中0.0008≤x≤0.0157,0.0007≤y≤0.0297;
步驟二、將混合均勻的粉體在900℃~1300℃下燒結0.5小時~5小時即得到所述銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料。
4.根據權利要求3所述的銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料的制備方法,其特征在于,x為0.0039,y為0.0097。
5.根據權利要求3所述的銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料的制備方法,其特征在于,步驟二中將混合均勻的粉體在1250℃下燒結3小時。
6.一種銪鏑共摻雜硫酸鈣發光薄膜,其特征在于,該銪鏑共摻雜硫酸鈣發光薄膜的材料的化學通式為CaSO4:xEu3+,yDy3+,其中CaSO4是基質,Eu和Dy元素是激活元素,0.0008≤x≤0.0157,0.0007≤y≤0.0297。
7.根據權利要求6所述的銪鏑共摻雜硫酸鈣發光薄膜,其特征在于,x為0.0039,y為0.0097。
8.一種銪鏑共摻雜硫酸鈣發光薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、根據CaSO4:xEu3+,yDy3+各元素的化學計量比稱取CaSO4,Eu2O3和Dy2O3粉體并混合均勻在900℃~1300℃下燒結0.5小時~5小時制成靶材,其中0.0008≤x≤0.0157,0.0007≤y≤0.0297;
步驟二、將步驟一中得到的靶材以及襯底裝入磁控濺射鍍膜設備的真空腔體,并將真空腔體的真空度設置為1.0×10-3Pa~1.0×10-5Pa;
步驟三、調整磁控濺射鍍膜工藝參數為:基靶間距為45mm~95mm,磁控濺射工作壓強0.2Pa~4Pa,工作氣體的流量為10sccm~35sccm,襯底溫度為250℃~750℃;接著進行制膜,得到薄膜樣品;
步驟四、將步驟三中得到的薄膜樣品于500℃~800℃下真空退火處理1h~3h,得到所述銪鏑共摻雜硫酸鈣發光薄膜。
9.根據權利要求8所述的銪鏑共摻雜硫酸鈣發光薄膜的制備方法,其特征在于,步驟一中x為0.0039,y為0.0097;步驟二中真空度為5.0×10-4Pa;步驟三中,基靶間距為60mm,磁控濺射工作壓強2Pa,工作氣體為氬氣,工作氣體的流量為25sccm,襯底溫度為500℃;步驟四中,薄膜樣品于600℃下真空退火處理2h。
10.一種薄膜電致發光器件,該薄膜電致發光器件包括依次層疊的襯底、陽極層、發光層以及陰極層,其特征在于,所述發光層的材料為銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料,該銪鏑共摻雜硫酸鈣發光材料的化學式為CaSO4:xEu3+,yDy3+,其中0.0008≤x≤0.0157,0.0007≤y≤0.0297。
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