[發(fā)明專利]金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜及其制備方法與應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110189980.0 | 申請日: | 2011-07-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102350345A | 公開(公告)日: | 2012-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李玉良;劉輝彪;李勇軍;李國興 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院化學(xué)研究所 |
| 主分類號(hào): | B01J23/52 | 分類號(hào): | B01J23/52;C02F1/30 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245 | 代理人: | 關(guān)暢 |
| 地址: | 100080 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 粒子 石墨 復(fù)合 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜,由通過靜電穩(wěn)定作用結(jié)合的金納米顆粒和石墨炔膜組成,所述金納米顆粒分布在所述石墨炔膜表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合膜,其特征在于:所述金納米顆粒的粒徑為4-24nm,優(yōu)選8nm;所述金納米顆粒與所述石墨炔膜的質(zhì)量比為1∶1-10,優(yōu)選1∶2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合膜,其特征在于:所述金納米粒子/石墨炔復(fù)合是按照權(quán)利要求4-7任一所述方法制備而得。
4.一種制備權(quán)利要求1或2所述金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜的方法,包括如下步驟:以石墨炔膜為載體,將含金化合物的水溶液、包覆劑和還原劑于水中混勻進(jìn)行還原反應(yīng),反應(yīng)完畢得到所述金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于:所述含金化合物選自氯化金和氯金酸中的至少一種,優(yōu)選氯金酸;所述包覆劑選自檸檬酸鈉、硫醇、十二胺和巰基乙酸中的至少一種,優(yōu)選檸檬酸鈉;所述還原劑選自硼氫化鈉和硼氫化鉀中的至少一種,優(yōu)選硼氫化鈉。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的方法,其特征在于:所述含金化合物的水溶液的濃度為0.05mol/L-0.2mol/L,優(yōu)選0.1mol/L;
所述含金化合物與所述石墨炔膜的質(zhì)量比為25-45∶1,優(yōu)選37.4∶1;
所述包覆劑、還原劑與所述石墨炔膜的質(zhì)量比為8-12∶1∶1.5-3,優(yōu)選10.4∶1∶2.1。
7.根據(jù)權(quán)利要求4-6任一所述的方法,其特征在于:所述還原反應(yīng)步驟中,溫度為5℃-30℃,優(yōu)選25℃,時(shí)間為3-8小時(shí),優(yōu)選5小時(shí)。
8.一種光催化降解偶氮染料的產(chǎn)品,其活性成分為權(quán)利要求1-3任一所述金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜。
9.權(quán)利要求1-3任一所述金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜在光催化降解偶氮染料中的應(yīng)用。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述產(chǎn)品或權(quán)利要求9所述的應(yīng)用,其特征在于:所述光催化劑降解步驟中所用的光源為太陽光;所述偶氮染料選自甲基紅、甲基橙、蘇丹紅和亞甲基藍(lán)中的至少一種,優(yōu)選甲基紅。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述產(chǎn)品或權(quán)利要求9所述的應(yīng)用,其特征在于:所述權(quán)利要求1-3任一所述金納米粒子/石墨炔復(fù)合膜的降解速度為0.556毫克/小時(shí)每毫克金納米粒子/石墨炔,速率常數(shù)為0.01885min-1。
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