[發(fā)明專利]等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積基座支撐設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110189852.6
• 申請(qǐng)日: 2005-09-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102220570A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 栗田真一;恩斯特·凱勒;約翰·M·懷特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/54
• 分類號(hào): C23C16/54
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陸勍

1.一種用于在一淀積反應(yīng)腔中支撐一矩形基座的設(shè)備，包含：

至少一支撐架，位于所述淀積反應(yīng)腔外側(cè)；

多個(gè)支撐軸，連接至所述至少一支撐架以支撐所述矩形基座；以及

至少四個(gè)支撐板，位于所述多個(gè)支撐軸和所述基座之間。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其進(jìn)一步包含：

至少一致動(dòng)器，連接至所述至少一支撐架。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，所述至少一支撐架進(jìn)一步包含：

一第一支撐架，位于所述反應(yīng)腔外側(cè)，其是連接至多個(gè)適于支撐基座中的一個(gè)邊緣的軸桿；以及

一第二支撐架，位于所述反應(yīng)腔外側(cè)，其是連接至至少一適于支撐所述基座中的一個(gè)中心區(qū)域的支撐軸。

4.一種用于在一淀積反應(yīng)腔中支撐一基座的方法，包括：

利用至少一支撐軸支撐所述基座的一中心區(qū)域；以及

利用多個(gè)支撐軸支撐所述基座的一邊緣，其中所述至少一支撐軸及多個(gè)支撐軸是延伸至所述反應(yīng)腔外側(cè)，且連接到至少一垂直致動(dòng)器。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，一支撐組件連接至所述至少一支撐軸以及所述多個(gè)支撐軸的至少多個(gè)。

6.如權(quán)利要求4所述的方法，其進(jìn)一步包含：

提供一連接至所述至少一支撐軸的第一垂直致動(dòng)器以及至少一連接至所述多個(gè)支撐軸的第二垂直致動(dòng)器；以及

通過(guò)選擇性啟動(dòng)所述第一及所述至少第二垂直致動(dòng)器的方式調(diào)整所述基座的一水平輪廓。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一垂直致動(dòng)器及所述至少第二垂直致動(dòng)器是獨(dú)立作控制。

8.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，一支撐組件連接至所述至少一支撐軸以及所述多個(gè)支撐軸的至少若干個(gè)。

9.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述所要求的水平輪廓為平面。

10.一種基座支撐設(shè)備，包括：

多個(gè)支撐板，適于接觸一淀積反應(yīng)腔中的一基座，所述多個(gè)支撐板中的至少一個(gè)適于在所述基座的邊緣處接觸所述基座，且所述多個(gè)支撐板連接至延伸于所述淀積反應(yīng)腔外側(cè)的至少兩個(gè)支撐軸；

至少一架，連接至所述至少兩個(gè)支撐軸；

一移動(dòng)塊，連接至所述至少一架；

一單一致動(dòng)器，連接至所述移動(dòng)塊；

一密封物，將所述設(shè)備與所述至少兩個(gè)支撐軸周圍的周邊環(huán)境隔離；以及

一冷卻塊，連接至所述密封物。

11.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)支撐板中的每一個(gè)都包括：

陶瓷材料。

12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)支撐板中的至少一個(gè)具有圓形形狀。

13.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)支撐板中的至少一個(gè)具有矩形形狀。

14.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)支撐板中的至少兩個(gè)連接至所述至少兩個(gè)支撐軸之一，其中一分支板位于它們之間。

15.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于，還包括：連接于所述多個(gè)支撐板和所述至少兩個(gè)支撐軸之間的縱向板。

16.一種用于在一淀積反應(yīng)腔中支撐一基板的設(shè)備，包括：

基座，包含第一材料；

多個(gè)基座支撐板，位于所述基座下方并與所述基座相接觸，所述基座支撐板包括與所述第一材料不同的第二材料；

多個(gè)支撐軸，連接至所述多個(gè)基座支撐板；

至少一架，連接至所述多個(gè)支撐軸；

移動(dòng)塊，連接至所述至少一架；

一單一致動(dòng)器，位于所述多個(gè)支撐板下方并連接至所述移動(dòng)塊，且所述多個(gè)支撐軸中的至少兩個(gè)位于所述多個(gè)支撐板的下方并延伸至所述淀積反應(yīng)腔外側(cè)；

一密封物，將所述設(shè)備與所述多個(gè)支撐軸周圍的周邊環(huán)境隔離；以及

一冷卻塊，連接至所述密封物。

17.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個(gè)支撐板包括矩形形狀、圓形形狀或者這兩者的組合。

18.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，還包括：

中心板，連接至所述致動(dòng)器，適于支撐所述基座的中心區(qū)域。