[發明專利]硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝無效
| 申請號: | 201110188264.0 | 申請日: | 2011-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN102263164A | 公開(公告)日: | 2011-11-30 |
| 發明(設計)人: | 單文光;黃華松;曹楚輝;陸昱;謝正芳;楊雪;張藍月;李良;高彥秋;吳立望;劉為舉 | 申請(專利權)人: | 楊雪 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;B23K26/00 |
| 代理公司: | 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 金輝 |
| 地址: | 213161 江蘇省常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 金屬 半導體 接觸 合金 制備 工藝 | ||
1.一種硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于制備步驟如下:a、將硅片(1)清洗制絨;b、擴散;c、去邊結和去磷硅玻璃;d、在硅片(1)正面鍍減反膜(2);e、在硅片(1)正面制作金屬電極(3);f、用激光(4)從硅片(1)反面照射金屬電極(3);g、在硅片(1)反面制作背面電極;h、在硅片(1)反面制作背面電場;i、加熱。
2.根據權利要求1所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:步驟f中的激光(4)能穿透硅片(1),其波長大于或等于1um,功率為1~10w,光脈沖功率為0.5~5J/cm2,頻率為1~100kHZ或連續性,光斑直徑為50~200μm。
3.根據權利要求1所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:步驟i中加熱溫度為550~650℃。
4.根據權利要求1-3中任意一項所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:步驟e中采用絲網印刷方式將金屬漿料印刷在硅片(1)正面,然后烘干形成電極。
5.根據權利要求4所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:所述烘干溫度為150~450℃。
6.根據權利要求1-3中任意一項所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:步驟e中采用電鍍的方法在硅片(1)表面電鍍金屬形成電極。
7.根據權利要求1-3中任意一項所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:步驟e中采用噴墨打印的方式在硅片(1)表面印刷金屬形成電極。
8.根據權利要求1-3中任意一項所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:步驟e中采用鍍膜的方式制作電極。
9.根據權利要求8中任意一項所述的硅太陽能電池金屬半導體接觸合金化制備工藝,其特征在于:所述鍍膜的方式為真空蒸發或濺射或離子鍍膜。
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H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





