[發明專利]液晶顯示面板、液晶顯示器及液晶顯示面板的制造方法

無效

• 申請號: 201110183096.6
• 申請日: 2011-06-30
• 公開（公告）號: CN102854649A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 殷震海;姬生超;韓珍珍
• 申請（專利權）人: 上海天馬微電子有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/133;H01L21/77
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種液晶顯示面板，包括：相對設置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝向第二基板一側上設置有第一光間隙物和第二光間隙物，所述第二基板朝向第一基板一側上設置有非金屬襯墊，所述非金屬襯墊與所述第二光間隙物相對應。

2.如權利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述非金屬襯墊包括單層非金屬層或多層非金屬層。

3.如權利要求2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述陣列基板上還形成有TFT，所述TFT包括位于陣列基板朝向彩膜基板一側的柵絕緣層、有源層、鈍化層，所述非金屬襯墊包括所述形成柵絕緣層、有源層或鈍化層的材料中的單層或多層。

4.如權利要求3所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述非金屬襯墊的厚度為

5.如權利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一光間隙物和第二光間隙物的高度相同。

6.如權利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第二基板朝向第一基板一側上還設置有開口，所述開口和第一光間隙物相對應。

7.如權利要求6所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述開口形成于金屬層或非金屬層中。

8.如權利要求7所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述陣列基板上還形成有TFT，所述TFT包括位于陣列基板上的柵絕緣層、有源層、鈍化層，所述開口形成于鈍化層中。

9.如權利要求7所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述陣列基板上還形成有TFT，所述TFT包括位于陣列基板上的柵絕緣層、有源層、鈍化層，所述開口形成于鈍化層中和有源層中。

10.如權利要求7所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述陣列基板上還形成有TFT，所述TFT包括位于陣列基板上的柵絕緣層、有源層、鈍化層，所述開口形成于鈍化層中、有源層和柵絕緣層中。

11.如權利要求7所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述非金屬襯墊的厚度為所述開口的深度為

12.如權利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述液晶顯示面板分為透光區域和非透光區域，所述非金屬襯墊位于所述非透光區域。

13.一種包括如權利要求1～12任意一權利要求所述的液晶顯示面板的液晶顯示器。

14.如權利要求13所述的液晶顯示器，其特征在于，所述液晶顯示器為觸控式液晶顯示器。

15.一種液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光間隙物以及第二光間隙物；

提供第二基板，在所述第二基板上依次形成TFT的柵極、柵絕緣層、有源層、源極/漏極金屬層、鈍化層，同時，在對應第二光間隙物處形成非金屬襯墊，所述非金屬襯墊由形成柵絕緣層、有源層、鈍化層的材料中的一層或多層形成；

在鈍化層內形成過孔，在鈍化層上形成像素電極，所述像素電極通過過孔和漏極金屬層電連接；

在第一基板和第二基板之間形成液晶層，并貼合所述第一基板、第二基板以形成液晶顯示面板。

16.如權利要求15所述的液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，所述非金屬襯墊的厚度為

17.如權利要求15所述的液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，還包括形成開口的步驟，所述開口的位置和第一光間隙物對應，所述開口形成在形成柵極、柵絕緣層、有源層、源極/漏極金屬層、鈍化層的材料中的一層或多層內。

18.如權利要求17所述的液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，所述開口形成在鈍化層中，所述開口和過孔在同一步驟中形成。

19.如權利要求17所述的液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，所述非金屬襯墊的厚度為所述開口的深度為