[發明專利]立射機臺上的光柵保護裝置

無效

• 申請號: 201110180652.4
• 申請日: 2011-06-30
• 公開（公告）號: CN102848543A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 馮超
• 申請（專利權）人: 蘇州品翔電通有限公司
• 主分類號: B29C45/84
• 分類號: B29C45/84
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛;趙艷

1.立射機臺上的光柵保護裝置，包括能夠發射光線的發射器、能夠接收所述發射器發射出的光線的接收器，所述發射器、所述接收器均設置在所述立射機臺的上面，并位于所述立射機臺的同一側，其特征在于：所述光柵保護裝置還包括能夠將所述發射器發射出的光線反射至所述接收器上的反射鏡，所述反射鏡也設置在所述立射機臺上面，并位于所述立射機臺的相對側，所述立射機臺上需要被保護的區域落在所述發射器、所述接收器、所述反射鏡之間的空間中。

2.根據權利要求1所述的立射機臺上的光柵保護裝置，其特征在于：所述立射機臺的輪廓大致呈四邊形，所述反射鏡包括第一反射鏡、第二反射鏡，所述第一反射鏡、所述第二反射鏡、所述發射器、所述接收器分別位于所述立射機臺的四個角落中，所述第一反射鏡上具有能夠對所述發射器發射出的光線進行反射的鏡面，所述第二反射鏡上具有能夠對所述第一反射鏡反射出來的光線再反射至所述接收器上的鏡面。