[發明專利]基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器無效
| 申請號: | 201110180191.0 | 申請日: | 2011-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN102288516A | 公開(公告)日: | 2011-12-21 |
| 發明(設計)人: | 趙立波;黃恩澤;張桂銘;趙玉龍;蔣莊德;苑國英;王曉坡;劉志剛 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G01N9/00 | 分類號: | G01N9/00;G01L9/04;G01K7/25 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 徐文權 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 mems 技術 同時 測量 流體 密度 壓力 溫度 集成 傳感器 | ||
1.基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:包括配置有空腔的基座(2),基座(2)內壁設置有永磁體(7),集成傳感器芯片(3)與玻璃底座(4)封裝在一起后封裝在基座(2)底部,所述基座(2)底部開設有供流體流入流出的通液孔(5、6),所述玻璃底座(4)開設由與前述通液孔相通的開孔已將基座(2)浸沒于流體中,所述集成傳感器芯片(3)通過其焊盤與PCB轉接板(1)相連,再通過信號線輸出;所述集成傳感器芯片(3)包括密度傳感器芯片(31),壓力傳感器芯片(32)和集成在密度傳感器芯片(31)表面的硼摻雜熱敏電阻(25),其中,所述密度傳感器芯片(3)通過其上的兩個焊盤引入交流電,所述壓力傳感器芯片(32)采用分布式梁膜結構。
2.如權利要求1所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:所述集成傳感器芯片(3)與玻璃底座(4)通過環氧樹脂粘結或玻璃粉燒結工藝封裝在基座底部。
3.如權利要求1中所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:所述密度傳感器芯片(31)表面的硼摻雜熱敏電阻(25)的有效長度方向為[010]晶向。
4.根據權利要求1所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:在所述壓力傳感器芯片(32)正面刻蝕形成分布式梁(33~36),在壓力傳感器芯片(32)背面腐蝕形成平膜(39),所述分布式梁(33~36)在平膜(39)之上,與其共同組成分布式梁膜結構。
5.根據權利要求4所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:所述在分布式梁(33~36)上最大應力處布置有由四個電阻條(21~24)形成的半開環惠斯通全橋(37)。
6.根據權利要求5所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:所述半開環惠斯通全橋(37)的電阻條(21~24)的布置方式為:電阻條(21~24)的有效長度均沿晶向。
7.根據權利要求1所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:所述密度傳感器芯片(31)具有硅微矩形懸臂梁結構,采用硼摻雜的方式在懸臂梁(41)發生共振時的最大應變處形成四個電阻條(26~29),所述電阻條(26~29)布置成閉環惠斯通全橋(38)。
8.根據權利要求7所述的基于MEMS技術的同時測量流體密度、壓力和溫度的集成流體傳感器,其特征在于:所述構成閉環惠斯通全橋(38)的四個電阻條(26~29)的布置方式為:所述相對的第一和第三電阻條(26、28)的有效長度方向沿[011]晶向,另一對相對的第二和第四電阻條(27、29)的有效長度方向沿晶向。
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