[發明專利]釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料的原位制備方法有效
| 申請號： | 201110180000.0 | 申請日： | 2011-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN102351541A | 公開（公告）日： | 2012-02-15 |
| 發明（設計）人： | 陳繼新;陳琳;周延春 | 申請（專利權）人： | 中國科學院金屬研究所 |
| 主分類號： | C04B35/597 | 分類號： | C04B35/597;C04B35/622 |
| 代理公司： | 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 張志偉 |
| 地址： | 110016 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 釔硅氧氮 氮化 陶瓷 復合材料 原位 制備 方法 | ||
1.一種釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料的原位制備方法，其特征在于：
1)原料粉組成：
以h-BN粉、Y2O3粉、SiO2粉和Si3N4粉為原料，h-BN粉、Y2O3粉、SiO2粉和Si3N4粉的摩爾比為(4.5～28.4)∶4∶1∶1；
2)制備工藝：
原料經過球磨1～24小時，裝入石墨模具中，以10～15MPa的壓力冷壓1～5分鐘成餅狀，在通有氮氣作為保護氣氛的熱壓爐中以5～40℃/min的升溫速率升至1500～1700℃保溫0.5～1小時，接著以5～40℃/min的升溫速率升至1800～2100℃保溫1～3小時，熱壓壓力為10～40MPa。
2.按照權利要求1所述的釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料的原位制備方法，其特征在于，Y2O3粉的粒度為100～400目，SiO2粉的粒度為100～400目，Si3N4粉的粒度為100～300目，h-BN粉的粒度為100～300目。
3.按照權利要求1所述的釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料的原位制備方法，其特征在于，氮化硼的體積含量為5～95％，其余為Y4Si2O7N2相。
4.按照權利要求1所述的釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料的原位制備方法，其特征在于，氮化硼的體積含量優選為10～30％，其余為Y4Si2O7N2相。
5.按照權利要求1所述的釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料的原位制備方法，其特征在于，復合材料中h-BN第二相尺寸在5μm以下，以孤島狀均勻彌散地分布在連續的Y4Si2O7N2基體當中。
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