[發明專利]一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液及其應用

有效

• 申請號: 201110179072.3
• 申請日: 2011-06-29
• 公開（公告）號: CN102199785A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發明（設計）人: 馬鳳倉;劉平;李偉;劉新寬;陳小紅;何代華;楊麗紅;曹雪
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: C25D11/26
• 分類號: C25D11/26
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 吳寶根

1.一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液，包括溶質和溶劑，其特征在于溶質為KOH、Na₂SiO₃、NaF、三乙醇胺及Na₂B₄O₇，溶劑為去離子水。

2.如權利要求1所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液，其特征在于所述溶液中，各溶質的濃度優選為?KOH：3g/L,Na₂SiO₃：5g/L,NaF：3g/L,三乙醇胺：3g/L,Na₂B₄O₇:?1g/L。

3.如權利要求1或2所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液的制備方法，其特征在于將各溶質加入去離子水后攪拌均勻即得本發明的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液。

4.用權利要求1或2所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液對鈦合金樣品表面進行微弧氧化的方法，其特征在于包括如下步驟：

（1）、鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液的配制

將各溶質加入去離子水后攪拌均勻，得到鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液；

（2）、鈦合金樣品表面除油、清洗；

（3）、將步驟（2）經除油、清洗的鈦合金放在步驟（1）所配制的鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液中，采用直流脈沖電源微弧氧化；

（4）、微弧氧化后的鈦合金樣品表面形成耐磨涂層，再用清水清洗后自然干燥，最終得到具有耐磨涂層的鈦合金。

5.如權利要求4所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液對鈦合金樣品表面進行微弧氧化的方法，其特征在于步驟（3）中的微弧氧化過程控制占空比為10～20%，電流密度為3-5A/dm²，電解液溫度小于60℃，時間為5-30min。

6.如權利要求5所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液對鈦合金樣品表面進行微弧氧化的方法，其特征在于步驟（3）中的微弧氧化過程控制占空比為20%，電流密度為3A/dm²，電解液溫度小于40℃，時間為5min。

7.如權利要求5所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液對鈦合金樣品表面進行微弧氧化的方法，其特征在于步驟（3）中的微弧氧化過程控制占空比為10%，電流密度為5A/dm²，電解液溫度小于60℃，時間為30min。

8.如權利要求5所述的一種鈦合金耐磨涂層的微弧氧化溶液對鈦合金樣品表面進行微弧氧化的方法，其特征在于步驟（2）中的鈦合金樣品表面用10%NaOH水熱液除油，清水清洗。