[發明專利]一種化學機械拋光液無效
| 申請號： | 201110178411.6 | 申請日： | 2011-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN102850937A | 公開（公告）日： | 2013-01-02 |
| 發明（設計）人： | 何華鋒;王晨 | 申請（專利權）人： | 安集微電子科技（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;C23F4/04 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新區華東路*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
1.一種化學機械拋光液，包含：水、比表面積范圍為120～300m2/g的研磨劑、質量百分比為0.1～0.2％的能產生銀離子的化合物、質量百分比為0.1～0.3％能產生硫酸根離子的化合物和過氧化物。
2.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述比表面積范圍為120～300m2/g的研磨劑選用SiO2。
3.如權利要求1或2所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述研磨劑質量百分比為0.1～10％。
4.如權利要求3所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述研磨劑質量百分比為0.5～6％。
5.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述能產生銀離子的化合物為硫酸銀、硝酸銀、氟化銀和/或高氯酸銀的可溶性銀鹽。
6.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述能產生硫酸根離子的化合物為硫酸鹽。
7.如權利要求6所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述硫酸鹽為非金屬硫酸鹽。
8.如權利要求7所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述非金屬硫酸鹽為硫酸銨。
9.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述過氧化物為過氧化氫。
10.如權利要求1或9所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述過氧化物質量百分比為0.1～5％。
11.如權利要求10所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述過氧化物質量百分比為1～2％。
12.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述化學機械拋光液還包含pH調節劑。
13.如權利要求1或12所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述化學機械拋光液的pH值為0.5～5。
14.如權利要求1-13任一項所述的化學機械拋光液，其特征在于：所述化學機械拋光液用于拋光鎢。
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