[發明專利]化學機械拋光方法無效
| 申請號: | 201110177218.0 | 申請日: | 2011-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN102229101A | 公開(公告)日: | 2011-11-02 |
| 發明(設計)人: | 路新春;王同慶;門延武;何永勇 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | B24B37/00 | 分類號: | B24B37/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 機械拋光 方法 | ||
1.一種化學機械拋光方法,其特征在于,包括:利用拋光頭夾持晶圓以在拋光盤上對所述晶圓進行化學機械拋光,其中在所述化學機械拋光過程中,所述拋光頭自轉且相對于所述拋光盤往復運動。
2.根據權利要求1所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復運動為往復平移。
3.根據權利要求2所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述拋光頭沿所述拋光盤的徑向往復平移。
4.根據權利要求2所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復平移的行程為5mm-50mm。
5.根據權利要求4所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復平移的行程為15mm-40mm。
6.根據權利要求1所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復運動的頻率為5-40次/分鐘。
7.根據權利要求6所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復運動的頻率為10-30次/分鐘。
8.根據權利要求7所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復運動的頻率為20次/分鐘。
9.根據權利要求1所述的化學機械拋光方法,其特征在于,所述往復運動為鐘擺式運動。
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