[發明專利]一種激光束均勻輻照光學系統

無效

• 申請號: 201110174772.3
• 申請日: 2011-06-27
• 公開（公告）號: CN102253493A
• 公開（公告）日: 2011-11-23
• 發明（設計）人: 江秀娟
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09;G02B3/00
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 林麗明

1.一種激光束均勻輻照光學系統，其特征在于包括有依次排列的對入射的窄帶激光束進行頻率展寬的相位調制器（1）、使寬帶激光在空間展開的色散光柵（2）、將激光束分割成大量子光束的正透鏡列陣（3）及負透鏡列陣（4）、使激光束在目標靶面形成均勻光斑的聚焦透鏡（5），且相位調制器（1）、色散光柵（2）、正透鏡列陣（3）、負透鏡列陣（4）、聚焦透鏡（5）的光軸在同一直線上。

2.根據權利要求1所述的激光束均勻輻照光學系統，其特征在于上述正透鏡列陣（3）包括有若干個相同的正小透鏡元，小透鏡元的口徑為d，焦距為f₁。

3.根據權利要求2所述的激光束均勻輻照光學系統，其特征在于上述負透鏡列陣（4）包括有若干個相同的負小透鏡元，小透鏡元的口徑為d，焦距為f₂，正透鏡列陣（3）的小透鏡元的口徑d與負透鏡列陣（4）的小透鏡元的口徑d相同。

4.根據權利要求3所述的激光束均勻輻照光學系統，其特征在于上述正透鏡列陣（3）與負透鏡列陣（4）之間距離為s。

5.根據權利要求4所述的激光束均勻輻照光學系統，其特征在于上述聚焦透鏡（5）的焦距為f。

6.根據權利要求5所述的激光束均勻輻照光學系統，其特征在于上述光束在聚焦透鏡（5）的焦面上形成大小為a的均勻光斑，光斑大小與系統參數的關系為

在系統確定的情況下，f₁、f₂、f和d不變，調節s能使光斑大小發生相應的線性變化。

7.根據權利要求6所述的激光束均勻輻照光學系統，其特征在于上述負透鏡列陣（4）固定不動，正透鏡列陣（3）能沿光軸移動。