[發明專利]使用旋轉陶瓷靶制造鍍膜玻璃的工藝

無效

• 申請號: 201110170660.0
• 申請日: 2011-06-23
• 公開（公告）號: CN102242333A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: 王進東
• 申請（專利權）人: 江蘇宇天港玻新材料有限公司
• 主分類號: C23C4/12
• 分類號: C23C4/12;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜玻璃制造工藝，特別地涉及一種使用旋轉陶瓷靶制造鍍膜玻璃的工藝。

背景技術

目前鍍膜玻璃的生產多采用磁控濺射技術，而其中所使用的靶一般分金屬靶、非金屬靶以及陶瓷靶。不管是哪種靶，目前的生產技術中的靶都是固定的。以陶瓷靶為例，在生產時將噴涂陶瓷靶固定于支架上進行噴涂。這種固定式的噴涂方式存在以下缺點：固定式陶瓷靶材利用率低，浪費靶材，成本高。固定式陶瓷靶材生產的鍍膜玻璃膜層不均，色差較大，平整度、光澤度不夠，穩定性差。固定式陶瓷靶材噴涂技術科技含量低，工藝相對簡單，性能相對較差。

發明內容

針對背景技術中存在的缺點，本發明提供了一種旋轉陶瓷靶的鍍膜玻璃生產工藝，來克服上述缺點。

該工藝的步驟如下：

將等離子噴涂設備通電，把電流設定為700A，電壓設定為70V，對設備進行預熱，預熱時間為15分鐘左右；待溫度升至80℃時，把電流設定為600A，電壓設定為65V；然后分別通入氬氣、氮氣、氫氣；最后將氣流調節為80m³/s；噴槍與靶材的距離調節為20厘米左右，使用等離子噴涂設備進行噴鍍，噴涂密度為5g/m³。其中使用的陶瓷靶被制成圓筒狀，該圓筒狀陶瓷靶套在旋轉軸上，在使用等離子噴涂設備進行噴涂時，旋轉軸保持每10分鐘轉一圈的速度勻速旋轉。

使用旋轉陶瓷靶的好處在于：旋轉式陶瓷靶材利用率高，節省靶材，成本低；生產的鍍膜玻璃膜層均勻，平整度、光澤度好，穩定性優異。

具體實施方式

將等離子噴涂設備通電，把電流設定為700A，電壓設定為70V，對設備進行預熱，預熱時間15分鐘；待溫度升至80℃時，把電流設定為600A，電壓設定為65V；然后分別通入氬氣、氮氣、氫氣，將氣流調節為80m³/s。將陶瓷靶制成圓筒狀，套在旋轉軸上，使用等離子噴涂設備進行噴涂。噴涂時，旋轉軸保持每10分鐘轉一圈的速度勻速旋轉。噴槍與靶材的距離調節為20厘米，以將噴涂密度控制在5g/m³。

本領域技術人員可以根據本發明公開的內容和所掌握的本領域技術對本發明內容作出替換或變型，但是這些替換或變型都不應視為脫離本發明構思的，這些替換或變型均在本發明要求保護的權利范圍內。