[發明專利]基于EMVA1288標準的相機性能測試平臺有效
| 申請號: | 201110167987.2 | 申請日: | 2011-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN102253594A | 公開(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發明(設計)人: | 馮兵;楊藝;陳玉蘭;趙嚴;張勇 | 申請(專利權)人: | 北京凌云光視數字圖像技術有限公司 |
| 主分類號: | G03B43/00 | 分類號: | G03B43/00 |
| 代理公司: | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 100097 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 emva1288 標準 相機 性能 測試 平臺 | ||
1.一種基于EMVA1288標準的相機性能測試平臺,用于對被測相機進行性能測試,其特征在于,包括積分球、暗箱、設置于暗箱中的光功率計、計算機控制系統和支架,所述暗箱上設置有入光孔,所述入光孔與積分球的出光孔相匹配,所述暗箱內沿積分球的出光孔的光軸方向依次設置有雙盤濾波部件和被測相機,所述雙盤濾波部件包括沿光軸方向設置的濾光片和衰減片,所述光功率計位于雙盤濾波部件和被測相機之間并避開光軸設置,所述濾光片、衰減片、光功率計和被測相機均設置在支架上并均與計算機控制系統相連,所述計算機控制系統將光強度和亮度的衰減值及實時監測的光功率數據計算處理得到EMVA1288標準規定的被測相機性能的參數。
2.根據權利要求1所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述濾光片包括第一圓盤以及在第一圓盤上繞圓心沿周向依次分布的兩片或兩片以上的不同波長的單色濾光片,所述衰減片包括第二圓盤以及在第二圓盤上繞圓心沿周向依次分布的兩片或兩片以上的不同光強衰減程度的中性衰減片,所述濾光片和衰減片在計算機控制系統的控制下繞各自圓心旋轉,所述單色濾光片和中性衰減片的直徑均大于積分球的出光孔直徑以通過所述出光孔的光源。
3.根據權利要求2所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述暗箱內沿積分球的出光孔的光軸方向依次設置濾光片和衰減片,或所述暗箱內沿積分球的出光孔的光軸方向依次設置衰減片和濾光片。
4.根據權利要求3所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述支架包括第一支撐輪、第二支撐輪、光功率支架和相機支架,所述濾光片的第一圓盤的中心設置于第一支撐輪,所述衰減片的第二圓盤的中心設置于第二支撐輪,所述光功率計設置在光功率計支架上,被測相機設置在相機支架上,所述第一支撐輪、第二支撐輪、光功率計支架和相機支架均高度可調并均設置在水平導軌上,所述積分球設置于高度可調的積分球支撐桿上。
5.根據權利要求4所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述第一支撐輪和第二支撐輪為雙盤支撐輪的兩部分,所述雙盤支撐輪高度可調并設置在水平導軌上。
6.根據權利要求1至5之一所述的相機性能測試平臺,其特征在于,還包括觸點式溫度計,所述觸點式溫度計的一端伸入暗箱的內部,觸點式溫度計與計算機控制系統相連。
7.根據權利要求2所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述濾波片中的單色濾波片為八片并在第一圓盤上繞圓心沿周向均勻分布;和/或所述衰減片中的中性衰減片為八片并在第二圓盤上繞圓心沿周向均勻分布。
8.根據權利要求1所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述積分球的出光孔發出色溫是3200K的均勻光源。
9.根據權利要求1所述的相機性能測試平臺,其特征在于,所述計算機控制系統包括依次相連的控制箱、計算機和示波器,所述濾光片、衰減片、光功率計和被測相機均與控制箱相連。
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