[發明專利]基板保持裝置、具備其之曝光裝置及方法、元件制造方法

有效

• 申請號: 201110167496.8
• 申請日: 2005-06-08
• 公開（公告）號: CN102290365A
• 公開（公告）日: 2011-12-21
• 發明（設計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權）人: 尼康股份有限公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683;G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 田野

1.一種基板保持裝置，保持通過液體曝光用光所照射的處理基板，其特征在于，具備：

基材；

第1保持部，形成于該基材，用以保持該處理基板；以及

第2保持部，形成于該基材，用以將板體保持于該第1保持部所保持的處理基板附近；

保持于該第2保持部的板體，具有：第1面，與該處理基板表面大致同一面高；以及第2面，在該第1保持部所保持的處理基板周緣部與該處理基板的背面對向。

2.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，保持于該第1保持部的處理基板的背面、與保持于該第2保持部的板體的第2面為非接觸。

3.如權利要求2所述的基板保持裝置，其中，保持于該第1保持部的處理基板的背面、與保持于該第2保持部的板體第2面的間隔，設定成使液體無法滲入。

4.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，該第2面具有撥液性。

5.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，保持于該第2保持部的板體，沿保持于該第1保持部的處理基板周緣形成該第1面與該第2面。

6.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，該處理基板表面的邊緣與該板體第1面的邊緣的間隙為0.1～1.0mm。

7.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，于該板體形成有液體回收口，其用以回收從該處理基板表面的邊緣與該板體第1面的邊緣的間隙滲入的液體。

8.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，該第2保持部吸附保持該板體。

9.如權利要求8所述的基板保持裝置，其中，該第1保持部吸附保持該處理基板。

10.如權利要求8所述的基板保持裝置，其中，該第1保持部，具有形成于該基材的凸狀第1支撐部與形成于該基材的第1外壁部，借由使該基材、該第1外壁部、以及該處理基板所包圍的第1空間成為負壓，來將該處理基板吸附保持于該第1支撐部；該第2保持部，具有形成于該基材的凸狀第2支撐部與形成于該基材的第2外壁部，借由使該基材、該第2外壁部、以及該板體所包圍的第2空間成為負壓，來將該板體吸附保持于該第2支撐部。

11.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，該第1面具有撥液性。

12.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，該板體，具有與該處理基板側面對向的具撥液性的面。

13.如權利要求1所述的基板保持裝置，其中，該基材能移動。

14.如權利要求13所述的基板保持裝置，其中，于該基材形成用以測量該基材位置的干涉儀用反射鏡。

15.一種曝光裝置，其特征在于：

具備權利要求1所述的基板保持裝置與第1及第2板體，借由通過液體將曝光用光照射在保持于該基板保持裝置的處理基板，來使該處理基板曝光。

16.一種元件制造方法，其特征在于：

使用權利要求15所述的曝光裝置。

17.一種基板載臺，該基板載臺保持被照射曝光用光的處理基板并移動，其特征在于，具備：

基材；

板體；

第1保持部，形成于該基材，將該處理基板保持成能拆裝；以及

第2保持部，形成于該基材，將該板體于第1保持部所保持的處理基板附近保持成能拆裝。

18.如權利要求17所述的基板載臺，其中，于該基材形成有液體回收口，用以回收從保持于第1保持部的處理基板與保持于第2保持部的板體間的間隙滲入的液體。

19.一種曝光裝置，其特征在于：

具備權利要求17所述的基板載臺，通過液體將曝光用光照射于處理基板來使處理基板曝光。

20.如權利要求19所述的曝光裝置，其進一步具有用以使第1保持部吸附保持處理基板的第1真空系統，以及具有用以使第2保持部吸附保持板體的第2真空系統。

21.如權利要求20所述的曝光裝置，其進一步具備用以通過該回收口來回收液體的第3真空系統、以及控制曝光裝置的控制裝置，該控制裝置，獨立控制第1～第3真空系統。