[發明專利]光波導裝置和光波導裝置的制造方法無效
| 申請號： | 201110167334.4 | 申請日： | 2011-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN102298171A | 公開（公告）日： | 2011-12-28 |
| 發明（設計）人： | 渡邊真也 | 申請（專利權）人： | 日本電氣株式會社 |
| 主分類號： | G02B6/122 | 分類號： | G02B6/122;G02B6/12;G02B6/13 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 波導 裝置 制造 方法 | ||
1.一種光波導裝置，包括：
下包覆層，所述下包覆層形成在基板上；
光波導芯體，所述光波導芯體形成在所述下包覆層上；
至少一對堤部，所述至少一對堤部沿布置在每一對所述堤部之間的所述光波導芯體成行布置；和
上包覆層，所述上包覆層遮蓋所述光波導芯體和所述堤部。
2.根據權利要求1所述的光波導裝置，其中，每一對所述堤部具有相等的寬度并距離所述光波導芯體相等的距離。
3.根據權利要求1所述的光波導裝置，其中，所有所述堤部和所述光波導芯體具有相等的寬度和相等的間隔。
4.根據權利要求1所述的光波導裝置，其中，所述堤部和所述光波導芯體由相同的層或同一層形成。
5.根據權利要求1所述的光波導裝置，其中，所述堤部與所述光波導芯體至少分離不會使沿所述光波導芯體傳播的光耦合的距離。
6.一種光波導裝置的制造方法，包括以下步驟：
在基板上形成下包覆層；
在所述下包覆層上形成光波導芯體和至少一對堤部，所述至少一對堤部沿布置在每一對所述堤部之間的所述光波導芯體成行布置；以及
形成遮蓋所述光波導芯體和所述堤部的上包覆層。
7.根據權利要求6所述的光波導裝置的制造方法，其中，每一對所述堤部具有相等的寬度并距離所述光波導芯體相等的距離。
8.根據權利要求6所述的光波導裝置的制造方法，其中，所有所述堤部和所述光波導芯體具有相等的寬度和相等的間隔。
9.根據權利要求6所述的光波導裝置的制造方法，其中，所述堤部和所述光波導芯體由相同的層或同一層形成。
10.根據權利要求6所述的光波導裝置的制造方法，其中，所述堤部與所述光波導芯體至少分離不會使沿所述光波導芯體傳播的光耦合的距離。
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