[發明專利]具有加熱器的角腔

有效

• 申請號: 201110166137.0
• 申請日: 2011-06-14
• 公開（公告）號: CN102385873A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: J·陳;N·D·塔布拉扎
• 申請（專利權）人: 西部數據傳媒公司
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 趙蓉民

技術領域

此處描述的實施例涉及磁盤處理系統的領域，具體地涉及磁盤處理系統的具有加熱器的角腔(comer?chamber)。

背景技術

在磁記錄盤的制造中使用各種處理系統。一個這種處理系統是可從日本的Canon?ANELVA公司得到的ANELVA?C-3050磁盤濺射系統。ANELVA?C-3050磁盤濺射系統具有濺射臺、加熱臺、冷卻臺、加載和卸載臺和角臺。角臺連接彼此處于不同取向(例如直角)的線狀排列的臺的兩個部分。ANELVA?C-3050系統上的角臺包括安裝在腔體的頂棚中的烘烤加熱器。烘烤加熱器在系統維護期間使用以從腔體中的機械部件祛除潮濕從而獲得系統的真空中提高的基底壓力。

烘烤加熱器在介質處理期間在生產操作中不被利用。ANELVAC-3050系統利用專用加熱臺來加熱磁盤。專用加熱臺占據與其它臺(例如濺射臺)相同的空間，使用專用加熱臺增加磁盤濺射系統的整體占位面積，并且由此增加濺射系統的成本。

發明內容

附圖說明

本發明在附圖中通過示例方式圖示說明而不限制，其中：

圖1圖示說明根據本發明的一個實施例的具有含有加熱器組件的角腔的磁盤處理系統。

圖2A是圖示說明具有加熱器組件的角腔的一個實施例的剖開立體圖；

圖2B是根據一個實施例的磁盤載體的一部分的平面圖；

圖3A是立體圖且圖3B是截面圖，圖示說明根據本發明的一個實施例的加熱器組件；

圖4是圖示說明具有加熱器組件的角腔的替換實施例的剖開立體圖；

圖5A是立體圖且圖5B是截面圖，圖示說明根據本發明的替換實施例的加熱器組件。

具體實施方式

下面參照附圖在此描述方法的實施例。然而，具體實施例可以不用一個或者更多個這些具體細節實施，或者與其它已知方法、材料和設備組合實施。在以下描述中，闡述多個具體細節(諸如具體材料、尺寸和處理參數等)以提供充分理解。在其它示例中，沒有特別詳細描述已知的制造處理和設備以避免混淆要求保護的主題。在本說明書中“實施例”意味著結合實施例描述的具體部件、結構、材料或者特征被包括在本發明的至少一個實施例中。由此，術語“在一個實施例中”在本說明書各個部分出現不一定指代相同實施例。此外，具體部件、結構、材料或者特征可以在一個或者更多個實施例中以任何合適方式組合。

具有含有加熱器組件的角腔的磁盤處理系統的實施例，該加熱器組件用于在生產期間加熱經過角腔的磁盤。在一個實施例中，角腔中的加熱器組件與載體旋轉組件耦合以繞著載體旋轉組件的旋轉軸線轉動加熱器組件同時固定磁盤的載體被旋轉組件轉動。先進介質的開發通常要求在常規介質的膜堆中添加層。這種額外層的沉積可以要求在磁盤處理系統中額外的臺。傳統的磁盤處理系統可以在線性臺中的一個中進行加熱操作。通過利用本發明的實施例在角臺中進行磁盤加熱，先前用于加熱操作的線性臺可以不再被占用以用作濺射臺或者其它類型的操作。應注意盡管本發明的實施例可以在此涉及介質或者磁記錄盤討論，但是此處討論的設備和方法還可以用于其它類型的盤，例如，諸如壓縮磁盤(CD)和數字多用盤(DVD)的光學記錄盤。磁盤濺射系統在本領域中已知，因此，在此不提供進一步的細節。

圖1圖示說明根據本發明的一個實施例的具有含有加熱器組件的角腔的磁盤處理系統。磁盤處理系統100包括位于不同線性部分的多個處理腔。各種類型的處理腔可以設置在任何臺，例如但不限于化學氣相沉積(CVD)、蝕刻、冷卻、加熱、加載、卸載、蝕刻等。圖1圖示說明的示例實施例包括處理臺P1-P20、角臺C1-C4、蝕刻腔P0、加載腔101和卸載腔102。處理臺P1-P3位于第一線性部分。處理臺P4-P12在與第一線性部分垂直的第二線性部分中。處理臺P13-P15在與第二線性部分垂直的第三線性部分中。處理臺P16-P20在與第三線性部分垂直的第四線性部分中。磁盤更換系統105用于將磁盤傳輸到和傳輸出磁盤處理系統100。

磁盤傳輸系統在各個臺之間傳輸在處理流111中在磁盤載體上(貯存在載體貯存器119中)的一個或者更多個磁盤(例如磁盤120)。在一個實施例中，每個磁盤載體保持兩個磁盤(例如磁盤120和121)使得兩個磁盤在具體臺內被處理。可替換地，磁盤載體可以固定超過或者少于兩個磁盤。