[發(fā)明專(zhuān)利]低磁導(dǎo)率的人工電磁材料有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110163730.X | 申請(qǐng)日: | 2011-06-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103036032A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉若鵬;欒琳;寇超峰;蔣楠楠 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創(chuàng)新技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01Q15/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01Q15/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁導(dǎo)率 人工 電磁 材料 | ||
1.一種低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,包括至少一個(gè)材料片層,每個(gè)材料片層包括片狀基板和附著在所述基板上的人造微結(jié)構(gòu),其特征在于,所述人造微結(jié)構(gòu)有至少一對(duì),每對(duì)人造微結(jié)構(gòu)包括附著在所述基板正面的第一人造微結(jié)構(gòu)和附著在所述基板背面且正對(duì)著所述第一人造微結(jié)構(gòu)的第二人造微結(jié)構(gòu),所述第一、第二人造微結(jié)構(gòu)為尺寸不相同的兩個(gè)開(kāi)口諧振環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述第一人造微結(jié)構(gòu)為近“凹”字形開(kāi)口諧振環(huán),所述第二人造微結(jié)構(gòu)為近“口”字形開(kāi)口諧振環(huán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述第一人造微結(jié)構(gòu)為近“凹”字形開(kāi)口諧振環(huán)的衍生結(jié)構(gòu),所述第二人造微結(jié)構(gòu)為近“口”字形開(kāi)口諧振環(huán)的衍生結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述第二人造微結(jié)構(gòu)小于第一人造微結(jié)構(gòu),且位于所述第一人造微結(jié)構(gòu)的垂直投影內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述第二人造微結(jié)構(gòu)位于所述第一人造微結(jié)構(gòu)的垂直投影的正中間位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述第一人造微結(jié)構(gòu)、第二人造微結(jié)構(gòu)分別陣列分布在所述基板的正面、背面,且一一對(duì)應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述第一、第二人造微結(jié)構(gòu)的陣列的行間距相等,二者陣列的列間距也相等。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述行間距和列間距不大于所述人工電磁材料響應(yīng)的入射電磁波波長(zhǎng)的十分之一。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述人造微結(jié)構(gòu)由銅線(xiàn)或銀線(xiàn)制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁導(dǎo)率的人工電磁材料,其特征在于,所述基板由聚四氟乙烯、環(huán)氧樹(shù)脂或者陶瓷制成。
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