[發明專利]流體噴射裝置

有效

• 申請號: 201110163252.2
• 申請日: 2011-06-10
• 公開（公告）號: CN102275388A
• 公開（公告）日: 2011-12-14
• 發明（設計）人: 平林直人
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J2/175
• 分類號: B41J2/175
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王軼;李偉

技術領域

本發明涉及流體噴射裝置。

背景技術

以往，作為從形成于頭的噴射面的噴嘴開口向靶材噴射流體的流體噴射裝置，例如廣泛地公知有噴墨式印刷裝置(以下，僅稱為“印刷裝置”)。在這樣的印刷裝置中，公知有在頭的噴射面相對于水平面傾斜的狀態(例如，垂直地立起的狀態)下向靶材噴射流體的結構的印刷裝置(例如，參照專利文獻1)。

在這種具有所謂的縱型頭(vertical?head)的印刷裝置中，以對因粘度增加的墨水所導致的噴嘴開口的堵塞進行抑制、以及將混入于頭內的墨水中的氣泡、灰塵排出等為目的，進行從頭內強制地吸引粘度增加等的墨水并排出的吸引動作。

在吸引動作中，例如，以與頭的噴射面對置的方式配置帽部件而進行吸引動作。在該情況下，由于帽部件的開口部(密閉噴射面的部分)為橫向，因此例如以在帽部件的內部配置有墨水吸收材料的狀態進行吸引動作，以免墨水泄漏。

專利文獻1：日本特開平03-293150號公報

然而，在上述結構中，存在印刷裝置成為傾斜的狀態的情況(例如，倒下的情況等)、成為上下相反的狀態的情況(例如，搬運時等)。在該情況下，例如，存在墨水向帽部件的開口部側流動的可能性，如果進行壓蓋動作等，則存在墨水附著于頭的噴射面的可能性。

發明內容

鑒于上述的事情，本發明的目的在于提供一種能夠防止噴出環境惡化的流體噴射裝置。

本發明所涉及的流體噴射裝置具備：流體噴射頭，其具有噴射流體的噴射面；流體接收部，其接收從上述流體噴射頭噴射的上述流體；流體箱，其具有積存對上述噴射面進行保濕的上述流體的流體室；吸引部，其對上述流體室進行吸引；流體流入部，其在上述流體室具有與上述流體接收部連接的流體流入口，且使利用上述流體接收部接收的上述流體從上述流體流入口流入到上述流體室；以及流體流出部，其在上述流體室具有與上述吸引部連接的流體流出口，且使上述流體室的上述流體從上述流體流出口朝上述吸引部流出，上述流體噴射裝置的特征在于，上述流體流入口以及上述流體流出口配置成，配置在從上述流體噴射頭噴射上述流體時的第一狀態下的上述流體箱的上述流體室中的位于比上述流體流出口靠鉛垂方向下側的位置的基準空間的體積，比配置在相對于上述第一狀態傾斜90度的第二狀態下的上述流體箱的上述流體室中的位于比上述流體流入口靠鉛垂方向下側的位置的空間的體積小。。

根據本發明，保持在配置于第一狀態的流體箱的流體室中的流體與位于流體流出口的鉛垂方向下側的空間的基準體積(基準空間的體積)一致。另外，由于該基準體積比配置于第二狀態的流體箱的流體室中的、位于比流體流入口靠鉛垂方向下側的位置的空間的體積小，故即便是在流體箱成為第二狀態的情況下，流體的上表面也配置于比流體流入口靠鉛垂方向的下側的位置。因此，由于流體不會與流體流入口接觸，故能夠防止流體室的流體從流體流入口返回到流體接收部。由此，能夠防止流體附著于噴射面，故可以防止噴出環境的惡化。

上述的流體噴射裝置的特征在于，上述流體流入口以及上述流體流出口配置成，配置于上述第二狀態的上述流體箱的上述流體室中的、位于比上述流體流出口靠鉛垂方向下側的位置的空間的體積比上述基準體積大。

根據本發明，即便是在流體箱成為第二狀態的情況下，流體的上表面也配置于比流體流出口靠鉛垂方向的下側的位置。由于流體不會與流體流出口接觸，故能夠防止流體室的流體從流體流出口過度地流出。由于能夠將流體可靠地保持于流體室，故能夠對噴射面進行保濕。由此，能夠防止噴出環境的惡化。

上述的流體噴射裝置的特征在于，上述流體流入口以及上述流體流出口配置成，配置在相對于上述第一狀態傾斜180度的第三狀態的上述流體箱的上述流體室中的、位于比上述流體流入口靠鉛垂方向下側的位置的空間的體積比上述基準體積大。

根據本發明，即便是在流體箱成為第三狀態的情況下，流體的上表面也配置于比流體流入口靠鉛垂方向的下側的位置。由于流體不會與流體流入口接觸，故能夠防止流體室的流體從流體流入口返回到流體接收部。由此，能夠防止流體附著于噴射面，故能夠防止噴出環境的惡化。

上述的流體噴射裝置的特征在于，上述流體流入口以及上述流體流出口配置成，配置于上述第三狀態的上述流體箱的上述流體室中的、位于比上述流體流出口靠鉛垂方向下側的位置的空間的體積比上述基準體積大。