[發(fā)明專利]多通道紅外探測(cè)器中條紋非均勻性實(shí)時(shí)校正方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110162823.0
• 申請(qǐng)日: 2011-06-17
• 公開（公告）號(hào): CN102289788A
• 公開（公告）日: 2011-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙春光;王壽峰;白俊奇;孫寧
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第二十八研究所
• 主分類號(hào): G06T5/00
• 分類號(hào): G06T5/00
• 代理公司: 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

1.一種多通道紅外探測(cè)器中條紋非均勻性實(shí)時(shí)校正方法，其特征在于包括如下步驟：

(1)利用標(biāo)準(zhǔn)參考輻射源，初始化多通道紅外探測(cè)器的條紋非均勻性變化區(qū)間[NU_min(j)，NU_max(j)]；NU_min(j)和NU_max(j)分別表示第j讀出通道變化區(qū)間的最小值和最大值，第j讀出通道對(duì)應(yīng)于圖像的第j列；

(2)輸入原始紅外圖像X_raw；

(3)校正原始紅外圖像的點(diǎn)狀非均勻性，輸出點(diǎn)校圖像X_fix；

(4)構(gòu)造讀出通道方向的高通濾波器，對(duì)點(diǎn)校圖像X_fix高通濾波，得到X_fix的高頻分量X_high；

(5)對(duì)點(diǎn)校圖像X_fix高頻分量X_high像素點(diǎn)進(jìn)行篩選，消除目標(biāo)高頻分量對(duì)條紋非均勻性校正參數(shù)的影響；

(6)基于步驟(5)計(jì)算第j讀出通道條紋非均勻性的校正參數(shù)O(j)；

(7)對(duì)點(diǎn)校圖像X_fix的條紋非均勻性進(jìn)行抑制，輸出校正圖像X_out；

(8)更新第j讀出通道條紋非均勻性的變化區(qū)間[NU_min(j)，NU_max(j)]；

(9)輸入新一幀原始紅外圖像，跳轉(zhuǎn)至步驟(3)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多通道紅外探測(cè)器中條紋非均勻性實(shí)時(shí)校正方法，其特征在于：步驟(1)中，條紋非均勻性變化區(qū)間的估計(jì)服從高斯3σ分布，即樣本期望的三倍方差內(nèi)是正常數(shù)值，表示為集合Y，

Y＝{X(k)|μ-3σ≤X(k)≤μ+3σ，1≤k≤n}

u=1nΣk=1nX(k)]]>

σ=1n-1Σk=1n(X(k)-u)2]]>

其中，X(k)是樣本，μ是期望，σ是標(biāo)準(zhǔn)差，n是樣本總個(gè)數(shù)。