[發明專利]無配向層的微相位差膜的制作方法有效
| 申請號: | 201110162353.8 | 申請日: | 2011-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN102243330A | 公開(公告)日: | 2011-11-16 |
| 發明(設計)人: | 蘇峻緯;連詹田 | 申請(專利權)人: | 華映視訊(吳江)有限公司;中華映管股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G03F7/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
| 地址: | 215217 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相位差 制作方法 | ||
1.?一種無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,包含有:
提供一基材;
于該基材上形成一液晶層,且該液晶層內包含復數個液晶分子、復數個感旋光性單體與復數個熱反應型單體;
進行一第一照光處理,于該液晶層內形成至少一第一相位延遲圖案;
進行一第二照光處理,于該液晶層內形成至少一第二相位延遲圖案;以及
進行一烘烤制程,進行于該第二照光處理之后,以形成該無配向層的微相位差膜。
2.?如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,還包含一預烘烤處理,進行于該第一照光處理之前。
3.如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該第一照光處理還包含利用至少一光罩,用以形成該第一相位延遲圖案。
4.?如權利要求3所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,還包含一位移該光罩一間距單位的步驟,進行于該第二照光處理之前。
5.?如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該些液晶分子至少包含一對稱基結構。
6.?如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該些感光型單體至少包含桂皮酸酯或香豆素。
7.?如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該些熱反應型單體至少包含苯乙烯或苯乙烯衍生物。
8.?如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該第一照光處理與該第二照光處理的照射方向不同。
9.?如權利要求1所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該第一照光處理與該第二照光處理分別包括一紫外光處理。
10.?一種無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,包含有:
?????提供一基材;
于該基材上形成一液晶層,且該液晶層內包含復數個液晶分子、復數個感旋光性單體與復數個光反應型單體;
進行一第一照光處理,于該液晶層內形成至少一第一相位延遲圖案;以及
進行一第二照光處理,于該液晶層內形成至少一第二相位延遲圖案。
11.如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該第一照光處理還包含利用至少一光罩,用以形成該第一相位延遲圖案。
12.?如權利要求11所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,還包含一位移該光罩一間距單位的步驟,進行于該第二照光處理之前。
13.?如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該些液晶分子至少包含一對稱基結構。
14.?如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該些感光型單體至少包含桂皮酸酯或香豆素。
15.?如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該些光反應型單體至少包含丙烯酰胺或丙烯酰胺衍生物、丙烯酸或丙烯酸衍生物、或甲基丙烯酸或甲基丙烯酸衍生物。
16.?如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該第一照光處理與該第二照光處理的照射方向不同。
17.?如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,該第一照光處理與該第二照光處理分別包括一紫外光處理。
18.?如權利要求10所述的無配向層的微相位差膜的制作方法,其特征在于,還包含一預烘烤處理,進行于該第一照光處理之前。
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